公开(公告)号：CN1879062A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200480033300.4

申请日：2004-09-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： J·克勒 ,  J·旺勒 ,  M·布洛特萨克 ,  W·辛格 ,  D·费奥卡 ,  M·毛尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/702

Abstract: 一种微光刻投影曝光系统的照明系统，用于以来自原始光源(11)的光照明一个照度场。所说照明系统具有一个光分配装置(25)，光分配装置用于接收来自原始光源的光并且从这个光产生两维的强度分布，所说两维的强度分布可以在照明系统的光瞳成形表面(31)内可变地设置。光分配装置具有至少一个光调制装置(20)，光调制装置(20)具有由可单独控制的各个元件(21)的一个两维阵列，以改变在光调制装置上入射的光的角度分布。所说的装置允许可变的设置完全不同的照明模式而不需要更换光学部件。