公开(公告)号：CN101495833A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780027739.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： F·席尔科 ,  R·弗赖曼 ,  M·德雷埃尔

IPC: G01B11/24 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02039

Abstract: 一种确定光学表面(12；103)的实际形状偏离理想形状的偏差的方法，包括如下步骤：提供入射电磁测量波(20；113)，提供两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)，在每种情况下，所述两个衍射结构被设计为重塑入射波的波前，通过辐射入射测量波(20；113)到至少一个待标定的衍射结构，标定两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)中的至少其中之一，以及在测量波和至少一个待标定的衍射结构(47；49；145，146，141，143)相互作用后，确定测量波(20；113)的实际波前偏离理想波前的标定偏差，将两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)设置于入射测量波(20；113)的光路中，从而测量波的各条光线辐射通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)，以及通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)将入射测量波(20；113)重塑为匹配的测量波(64；114)，其波前匹配光学表面(12；103)的理想形状，在匹配的测量波(64；114)的光路中设置光学表面(12；103)，从而匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用，以及在匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用之后，测量匹配的测量波(64；114)的波前。