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公开(公告)号：CN1973246A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200580018031.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
Abstract: 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100)，提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156)，该测量系统包括，具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110)，其设置于成像系统的目标侧上；具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120)，其设置于成像系统的图像侧上；该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配：当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时，产生叠加图案；和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125)，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。
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公开(公告)号：CN101833247A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN201010004587.5
申请日：2005-06-02
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
Abstract: 一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的物面中的图案成像到所述投影物镜的像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的物侧和像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。
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公开(公告)号：CN100594430C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200580018031.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
Abstract: 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100)，提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156)，该测量系统包括，具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110)，其设置于成像系统的目标侧上；具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120)，其设置于成像系统的图像侧上；该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配：当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时，产生叠加图案；和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125)，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。
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