用于测量光学成像系统的图像质量的系统

    公开(公告)号:CN1973246A

    公开(公告)日:2007-05-30

    申请号:CN200580018031.9

    申请日:2005-06-02

    Abstract: 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100),提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156),该测量系统包括,具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110),其设置于成像系统的目标侧上;具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120),其设置于成像系统的图像侧上;该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配:当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时,产生叠加图案;和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125),以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此,在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面,可能不受浸液的有害影响。

    用于测量光学成像系统的图像质量的系统

    公开(公告)号:CN100594430C

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN200580018031.9

    申请日:2005-06-02

    Abstract: 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100),提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156),该测量系统包括,具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110),其设置于成像系统的目标侧上;具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120),其设置于成像系统的图像侧上;该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配:当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时,产生叠加图案;和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125),以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此,在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面,可能不受浸液的有害影响。

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