公开(公告)号：CN103100980A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201310018969.7

申请日：2013-01-18

Applicant: 吉林大学

Inventor： 张雷 ,  周宛松 ,  冀世军 ,  王昕

IPC: B24B57/02

Abstract: 本发明涉及一种磨料自供式抛光系统，属于机械制造领域。螺旋供料装置与支撑座固定连接，电机的输出轴通过联轴器与螺旋供料装置的螺旋轴的一端连接，该螺旋轴的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接。优点是可实现向抛光接触区域持续提供游离磨料，保证了抛光接触区域各处游离磨料分布基本均匀；实现了抛光液的自动可控供给。

公开(公告)号：CN203077104U

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201320027335.3

申请日：2013-01-18

Applicant: 吉林大学

Inventor： 张雷 ,  周宛松 ,  冀世军 ,  王昕

IPC: B24B57/02

Abstract: 本实用新型涉及一种磨料自供式抛光系统，属于机械制造领域。螺旋供料装置与支撑座固定连接，电机的输出轴通过联轴器与螺旋供料装置的螺旋轴的一端连接，该螺旋轴的另一端通过螺钉与抛光工具的抛光头连接；供液和回收系统与螺旋供料装置连接。优点是可实现向抛光接触区域持续提供游离磨料，保证了抛光接触区域各处游离磨料分布基本均匀；实现了抛光液的自动可控供给。