公开(公告)号：CN105474366A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201480046528.0

申请日：2014-08-21

Applicant: 嘉柏微电子材料股份公司

Inventor： G.弗图 ,  A.卡恩纳 ,  R.瓦卡西

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D11/001

Abstract: 本发明提供用于化学机械抛光的包含多孔聚合材料的抛光垫，其中该抛光垫包含闭孔且其中该抛光垫具有70％或更大的空隙体积分数。还公开了用于制备前述抛光垫的方法及通过使用前述抛光垫来抛光基板的方法。

公开(公告)号：CN105518832B

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201480046531.2

申请日：2014-08-14

Applicant: 嘉柏微电子材料股份公司

Inventor： R.瓦卡西 ,  G.弗图

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/042 ,  B24B37/22 ,  C08J9/122 ,  C08J2201/032 ,  C08J2203/06 ,  C08J2205/044 ,  C08J2205/052 ,  C08J2207/00 ,  C08J2300/22 ,  C08J2300/26 ,  C08J2375/04

Abstract: 公开了一种用于化学机械抛光的抛光垫。该抛光垫具有多孔界面及基本上无孔的本体核心。还公开了使用及制备该抛光垫的相关装置及方法。

公开(公告)号：CN105518832A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201480046531.2

申请日：2014-08-14

Applicant: 嘉柏微电子材料股份公司

Inventor： R.瓦卡西 ,  G.弗图

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/042 ,  B24B37/22 ,  C08J9/122 ,  C08J2201/032 ,  C08J2203/06 ,  C08J2205/044 ,  C08J2205/052 ,  C08J2207/00 ,  C08J2300/22 ,  C08J2300/26 ,  C08J2375/04

Abstract: 公开了一种用于化学机械抛光的抛光垫。该抛光垫具有多孔界面及基本上无孔的本体核心。还公开了使用及制备该抛光垫的相关装置及方法。

公开(公告)号：CN107520743A

公开(公告)日：2017-12-29

申请号：CN201710887971.6

申请日：2014-08-21

Applicant: 嘉柏微电子材料股份公司

Inventor： G.弗图 ,  A.卡恩纳 ,  R.瓦卡西

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/26

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D11/001 ,  B24B37/26

Abstract: 本发明涉及具有闭孔结构的超高空隙体积抛光垫。具体地说，本发明提供用于化学机械抛光的包含多孔聚合材料的抛光垫，其中该抛光垫包含闭孔且其中该抛光垫具有70％或更大的空隙体积分数。还公开了用于制备前述抛光垫的方法及通过使用前述抛光垫来抛光基板的方法。