靶材
    1.
    发明公开
    靶材 无效

    公开(公告)号:CN103898454A

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201310741861.0

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明提供一种靶材,所述靶材具备以下构成:(1)前述靶材被用作用于形成Cu布线的保护膜的靶;(2)前述靶材包含Nb、Ni、Ti和M(其中,M为任意元素)作为主要构成元素,余量由不可避免的杂质组成,其中,M为选自由V、Zr、Mo、Ta和W构成的组中的任意1种以上元素;(3)前述主要构成元素满足式:Nba(Ni1-xTix)b(M)c的关系,其中,20(at%)≤a≤45(at%)、50(at%)≤b≤80(at%)、0(at%)≤c≤8(at%)、a+b+c=100(at%)、0.8182≤(1-x)/x≤1.2222。

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