-
公开(公告)号：CN1151609A
公开(公告)日：1997-06-11
申请号：CN96120117.7
申请日：1996-09-28
Applicant: 大宇电子株式会社
Inventor： 卢载遇
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G03F7/094 , H01L21/32115
Abstract: 一种使非平面层平面化的方法，包括下列步骤：(a)在非平面上面形成第一层；(b)在介电层的上面加播种层；(c)在播种层的上面形成光刻胶层；(d)使光刻胶层的一些部分形成图案且将其部分地去除，由此使播种层的上表面的一些部分暴露出；(f)去除剩余的光刻胶层直到位于其下的播种层被暴露出来；(g)以下述方式去除仍残留的光刻胶部分、突出在介于导电层之间的播种层和第一层的部分，也即，使第一层中的突起完全被作；以及(h)去除导电层及其下面的播种层。
-
公开(公告)号：CN1407727A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02106986.7
申请日：2002-03-12
Applicant: 大宇电子株式会社
CPC classification number: H04L1/0057 , G11B20/18 , G11B20/1803 , H03M7/00 , H03M13/05 , H03M13/09
Abstract: 一种数据块编码算法，利用已经m比特信息的n+1个原始数据块的一个原始数据块组，其第一个m比特信息的原始数据块被编码为一个n比特码字的基准数据块，并且根据该基准数据块的比特序列，处在该第一个m比特信息的原始数据块之后的n个m比特信息的原始数据块被编码为n个n比特码字的加权数据块。一种数据块解码算法，解码n个加权数据块，以便产生m比特信息的对应的原始数据块，并且从一个基准比特的序列重建m比特信息的第一原始数据块，其中每一个基准比特指示该n个加权数据块的每一个是否为一个A型加权数据块或一个B型加权数据块。
-
公开(公告)号：CN1177169A
公开(公告)日：1998-03-25
申请号：CN96106986.4
申请日：1996-08-02
Applicant: 大宇电子株式会社
Inventor： 卢载遇
CPC classification number: G11B5/313 , G11B5/17 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 一种在一个基片上形成一个有图案的金属层的方法被用来在基片的上表面上形成一个第一层。然后,在第一层的上面沉积一个有图案的掩膜层,由此暴露出第一层中被选择的部分。接着,在第一层被选择部分的顶上相继形成一个第二和一个第三层,且有图案的掩膜层被去除。然后,除了介于基片的上表面和第二层之间的部分以外,第一层通过采用一种干性蚀刻方法被去除,由此形成有图案的金属层,该金属层包括第二层和第一层中暴露出来的部分。
-
公开(公告)号：CN1139708A
公开(公告)日：1997-01-08
申请号：CN96101196.3
申请日：1996-02-14
Applicant: 大宇电子株式会社
Inventor： 卢载遇
IPC: C25D5/02
Abstract: 一种在具有已形成图案的源层的衬底上形成导电层的方法，包括下述步骤：(a)在己形成图案的源层上和未被已形成图案的源层遮盖的那部分衬底上淀积出介电层；(d)在介电层顶面形成光刻胶层；(e)通过光刻胶层来形成图案构成掩膜；(f)藉助掩膜，对在已形成图案的源层顶面上形成的那部分介电层进行选择性腐蚀，继而显露出形成图案的源层；(g)在裸露的已形成图案的源层上电镀出导电层。
-
公开(公告)号：CN1132676A
公开(公告)日：1996-10-09
申请号：CN95120467.X
申请日：1995-12-08
Applicant: 大宇电子株式会社
Inventor： 卢载遇
IPC: B24B37/04
CPC classification number: B24B37/015 , B24B47/20
Abstract: 一种用来抛光半导体衬底顶面上沉积的介质层的装置，包括一工作台，一半导体衬底，一挂架，一导管，一管嘴，和一具备一底座、一电源、一空腔和一热延伸材料的驱动总成。驱动总成通过对热延伸材料施加电流来控制工作台的垂直方向位置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1220332C
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN02106986.7
申请日：2002-03-12
Applicant: 大宇电子株式会社
CPC classification number: H04L1/0057 , G11B20/18 , G11B20/1803 , H03M7/00 , H03M13/05 , H03M13/09
Abstract: 一种数据块编码算法，利用已经m比特信息的n+1个原始数据块的一个原始数据块组，其第一个m比特信息的原始数据块被编码为一个n比特码字的基准数据块，并且根据该基准数据块的比特序列，处在该第一个m比特信息的原始数据块之后的n个m比特信息的原始数据块被编码为n个n比特码字的加权数据块。一种数据块解码算法，解码n个加权数据块，以便产生m比特信息的对应的原始数据块，并且从一个基准比特的序列重建m比特信息的第一原始数据块，其中每一个基准比特指示该n个加权数据块的每一个是否为一个A型加权数据块或一个B型加权数据块。
-
-
公开(公告)号：CN1152795A
公开(公告)日：1997-06-25
申请号：CN96119880.X
申请日：1996-09-28
Applicant: 大宇电子株式会社
Inventor： 卢载遇
IPC: H01L21/302 , H01L21/31 , H01L21/70
CPC classification number: H01L21/31055 , H01L21/31056 , H01L21/31111
Abstract: 用于平面化基底顶表面上的构图结构平面化的方法，包括下述步骤：在构图结构上沉积绝缘层，在绝缘层的表面上注入预定深度的离子化的原子，在绝缘层上涂覆一光阻层并部分去除该光阻层，使得构图结构上的一部分绝缘层在与该构图结构的宽度基本相同的横向长度值上不被覆盖，将该不被覆盖的部分暴露在蚀刻剂下直到其被去除，而基本上与余下的绝缘层平齐，以及从绝缘层上去除光阻材料。该方法还包括在去除步骤之后重复地进行深蚀刻的步骤。
-
公开(公告)号：CN101051477A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200610107417.3
申请日：2006-07-20
Applicant: 大宇电子株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11B7/135 , G03H1/26
Abstract: 提供了一种光学信息处理设备以及使用其的光学信息记录和再现方法。所提供的光学信息记录设备包括：光源；光调制器，其中形成有用于将从所述光源发出的光束转换为参考光束的参考光束图案和用于将所述光束转换为信号光束的信号光束图案，并且在对光学信息进行复用和记录时改变所述参考光束图案；以及透镜，当从所述光调制器发出的信号光束和参考光束照射到光学信息存储介质时，所述透镜使得可以通过所述参考光束与所述信号光束之间的干涉将光学信息记录在所述光学信息存储介质中。因此，在使用同轴光学系统的光学信息处理设备中，可以更有效地对光学信息进行复用，并且可以提高全息光学信息的存储密度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.054 seconds)
