公开(公告)号：CN1149138A

公开(公告)日：1997-05-07

申请号：CN95105544.5

申请日：1995-06-05

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 池政范 ,  崔泳畯

IPC: G02F1/01

CPC classification number: G02B26/0858 ,  Y10S359/90 ,  Y10T29/42

Abstract: 一种改进的生产M×N薄膜可致动反射镜阵列的方法，包括如下步骤：提供具有平的顶面的基底；在其顶面上相继形成分离层、第一薄膜层、薄膜电致移位层、第二薄膜层、弹性层和薄膜待除层；对待除层形成M×N空槽阵列；在待除层顶上形成支承层；形成M×N导管阵列；在其上形成一个M×N半成品的可致动反射镜结构；将一个有源矩阵与其相连；去除分离层，在M×N半成品可致动反射镜阵列中形成可致动反射镜结构的图案；去除薄膜待除层；形成所需×阵列。

公开(公告)号：CN1156838A

公开(公告)日：1997-08-13

申请号：CN96103440.8

申请日：1996-03-13

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 金俊模 ,  崔泳畯

IPC: G02F1/01 ,  G02B27/18

CPC classification number: G02B26/0858

Abstract: 制作光学投射系统的薄膜可驱动反射镜阵列的方法，包括：提供一有源矩阵；淀积一薄膜待除层；对薄膜待除层进行离子植入；生成一空腔阵列；淀积一弹性层；形成一导体阵列；相继地淀积一第二薄膜层、一薄膜电致位移层和一第一薄膜层，由此形成一多层结构；使多层结构成型为半完成可驱动反射镜阵列；形成覆盖各半完成可驱动反射镜的薄膜保护层；利用腐蚀剂除去薄膜待除层；利用清洗剂清洗掉腐蚀剂；除去清洗剂；及除去薄膜保护层，由此形成薄膜可驱动反射镜阵列。

公开(公告)号：CN1062664C

公开(公告)日：2001-02-28

申请号：CN95105544.5

申请日：1995-06-05

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 池政范 ,  崔泳畯

IPC: G02F1/01

CPC classification number: G02B26/0858 ,  Y10S359/90 ,  Y10T29/42

Abstract: 一种改进的生产M×N薄膜可致动反射镜阵列的方法，包括如下步骤：提供具有平的顶面的基底；在其顶面上相继形成分离层、第一薄膜层、薄膜电致移位层、第二薄膜层、弹性层和薄膜待除层；对待除层形成M×N空槽阵列；在待除层顶上形成支承层；形成M×N导管阵列；在其上形成一个M×N半成品的可致动反射镜结构；将一个有源矩阵与其相连；去除分离层，在M×N半成品可致动反射镜阵列中形成可致动反射镜结构的图案；去除薄膜待除层；形成所需×阵列。