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公开(公告)号：CN116679366A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202310575313.9
申请日：2023-05-19
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种相干衍射成像聚焦系统和相干衍射成像系统，其中，相干衍射成像聚焦系统用于接收并聚焦来自光源的光，且包括：第一反射镜，用于接收来自光源的光；所述第一反射镜的反射面上设置有第一多层膜；所述光源的光入射所述第一反射镜的入射角小于掠射角度；第二反射镜，用于接收所述第一反射镜的出射光；所述第二反射镜的发射面上设置有第二多层膜；所述第一反射镜的出射光入射所述第二反射镜的入射角小于掠射角度；所述第二反射镜的出射光可聚焦。本发明技术方案能够使得相干衍射成像系统的结构更紧凑。
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公开(公告)号：CN116381953B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310646994.3
申请日：2023-06-02
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明公开一种激光整形装置，包括：第一透镜阵列，包括多个第一子透镜；多个所述第一子透镜的出光面的面型均由一母透镜的表面随机选取面型获得；所述母透镜的尺寸大于所述第一子透镜尺寸的一倍，且小于或等于所述第一子透镜的尺寸的三倍；第二透镜阵列，包括多个第二子透镜；所述第二透镜阵列设置在所述第一透镜阵列的出光侧；所述第二子透镜与所述第一子透镜对应设置；傅里叶透镜，所述傅里叶透镜设置在所述第二透镜阵列的出光侧。本发明技术方案可以产生空间分布更均匀的激光光斑。
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公开(公告)号：CN116381953A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310646994.3
申请日：2023-06-02
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明公开一种激光整形装置，包括：第一透镜阵列，包括多个第一子透镜；多个所述第一子透镜的出光面的面型均由一母透镜的表面随机选取面型获得；所述母透镜的尺寸大于所述第一子透镜尺寸的一倍，且小于或等于所述第一子透镜的尺寸的三倍；第二透镜阵列，包括多个第二子透镜；所述第二透镜阵列设置在所述第一透镜阵列的出光侧；所述第二子透镜与所述第一子透镜对应设置；傅里叶透镜，所述傅里叶透镜设置在所述第二透镜阵列的出光侧。本发明技术方案可以产生空间分布更均匀的激光光斑。
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公开(公告)号：CN114755784A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210677504.1
申请日：2022-06-16
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明公开一种柱透镜的支撑装置及光学设备，柱透镜的支撑装置包括支撑架和压紧组件，支撑架开设有供光线穿过的开口以及用于容纳柱透镜的安装孔，开口与安装孔连通，且支撑架上设有均位于安装孔内的柔性台和三个支撑台，柔性台和多个支撑台均支撑柱透镜，且多个支撑台围成支撑结构，安装孔的孔壁与柱透镜的侧壁抵接，压紧组件包括均与支撑架连接的柔性压块和多个压紧块，压紧块与支撑台的数量一致且一一对应，各压紧块用于将柱透镜压紧在对应的支撑台上，柔性压块将柱透镜压紧在柔性台上。本发明的支撑装置通过多个压紧块将柱透镜压紧在多个支撑台上，并通过柔性压块将柱透镜压紧在柔性台上，从而实现多点压装，避免影响柱透镜的面形精度。
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公开(公告)号：CN116088188B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202310363633.8
申请日：2023-04-07
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明提出一种激光强度均匀化装置，光源的出射光沿第一方向延伸并依次穿过准直扩束透镜、啁啾阵列透镜组件及聚焦透镜；透光介质朝向聚焦透镜的一侧具有第一安装面，透光介质朝向准直扩束透镜的一侧具有第二安装面；多个第一子透镜沿第二方向依次设置在第一安装面上；多个第二子透镜沿第二方向依次设置在第二安装面上；第二方向与第一方向垂直，透光介质在第一方向上的宽度朝第二方向呈渐缩设置。本发明技术方案采用啁啾阵列透镜组件的非周期性结构，抑制多光束干涉效应，提高平顶光束光强的均匀程度，更适用于相干性较强的光源普适性强。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116244559A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202211600523.0
申请日：2022-12-12
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F17/14
Abstract: 本申请公开了一种贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质，贝塞尔高斯光束由离轴锥反射镜的锥面将以一预设入射角入射的高斯光束反射得到；方法包括：获取高斯光束在离轴锥反射镜上刚刚反射后形成的反射光束的第一光场分布；基于所述第一光场分布，构建一虚拟面，并获得所述高斯光束在所述虚拟面上的第三光场分布；确定第三光场分布的离散化频谱；确定贝塞尔高斯光束在预设衍射场上的离散采样点坐标集；基于离散化频谱，对离散采样点坐标集进行非均匀离散傅里叶变换，获得贝塞尔高斯光束在预设衍射场上的第二光场分布。本申请提供了一种计算离轴锥反射镜生成的贝塞尔高斯光束的衍射场的低复杂度、快速计算算法。
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公开(公告)号：CN114755784B
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202210677504.1
申请日：2022-06-16
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明公开一种柱透镜的支撑装置及光学设备，柱透镜的支撑装置包括支撑架和压紧组件，支撑架开设有供光线穿过的开口以及用于容纳柱透镜的安装孔，开口与安装孔连通，且支撑架上设有均位于安装孔内的柔性台和三个支撑台，柔性台和多个支撑台均支撑柱透镜，且多个支撑台围成支撑结构，安装孔的孔壁与柱透镜的侧壁抵接，压紧组件包括均与支撑架连接的柔性压块和多个压紧块，压紧块与支撑台的数量一致且一一对应，各压紧块用于将柱透镜压紧在对应的支撑台上，柔性压块将柱透镜压紧在柔性台上。本发明的支撑装置通过多个压紧块将柱透镜压紧在多个支撑台上，并通过柔性压块将柱透镜压紧在柔性台上，从而实现多点压装，避免影响柱透镜的面形精度。
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公开(公告)号：CN116449526B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310716116.4
申请日：2023-06-16
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提出一种快速反射镜装置，第一柔性连接件的一端设置在底座上，另一端远离底座；反射镜设置在第一柔性连接件远离底座的一端上；驱动件设置在底座上，第二柔性连接件的第一连接部的底部与驱动件连接，第一连接部的顶部与底座连接；第二柔性连接件的第二连接部的顶部与第一柔性连接件的顶部边缘连接，第二连接部的底部与第一连接部的顶部连接；驱动件驱动第二柔性连接件带动第一柔性连接件偏转，反射镜跟随第一柔性连接件偏转。本发明自重轻，降低整体惯性；避免与反射镜直接接触，消除驱动件热量对反射镜产生影响。且驱动件的驱动方向不与反射镜干涉，安装调节方式灵活，不受制于驱动件的尺寸限制，抗干扰能力强。
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公开(公告)号：CN116047777A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310189765.3
申请日：2023-03-02
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种变倍数均匀激光产生装置，包括：安装结构；光源；变焦准直部件，变焦准直部件安装在安装结构上，变焦准直部件包括至少三个同轴设置的透镜阵列；三个透镜阵列之间的距离均可调；光束匀化部件，光束匀化部件安装在安装结构上，光束匀化部件设置在变焦准直部件的光路下游，光束匀化部件包括第一柱面透镜阵列、第二柱面透镜阵列、第三柱面透镜阵列、第四柱面透镜阵列、第五柱面透镜阵列、第六柱面透镜阵列和傅里叶透镜；第一柱面透镜阵列、第二柱面透镜阵列和第三柱面透镜阵列之间的距离均可调；第四柱面透镜阵列、第五柱面透镜阵列和第六柱面透镜阵列之间的距离均可调。本发明技术方案能够输出边缘更稳定的均匀激光。
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公开(公告)号：CN114988352A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210465682.8
申请日：2022-04-29
Applicant: 季华实验室
IPC: B81C99/00
Abstract: 本发明公开了一种金刚石对顶砧集成器件的方法，属于材料加工技术领域。该方法包括：在微阵列模板的表面上形成液相层；将金刚石对顶砧的砧面与微阵列模板的表面贴合，以使液相层位于金刚石对顶砧的砧面与微阵列模板之间，得到复合体；烘干复合体，得到砧面集成有器件的目标金刚石对顶砧。本发明利用具有微阵列结构的微阵列模板，使得制备材料溶液可以按照对应的微阵列结构附着于砧面上，然后通过加热烘干析出晶体，从而使得析出的晶体可以按照对应的微阵列结构形成所需器件。本发明无需采用光刻或人工的加工工艺在金刚石对顶砧上集成器件，避免了传统工艺导致的材料损坏、操作复杂和精度较低的问题，从而提升了集成器件的质量和效率。
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