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公开(公告)号:CN105377757A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201480038835.4
申请日:2014-07-10
Applicant: 宾夕法尼亚州研究基金会
CPC classification number: B01J21/06 , B01J35/004 , B01J35/1019 , B01J35/1023 , B01J35/1042 , B01J35/1047 , B01J35/1061 , C01B33/033 , H01M4/386 , H01M4/622 , H01M4/623 , H01M8/0606 , H01M10/0525 , Y02E60/324 , Y02P70/56
Abstract: 我们提供了通过无模板和无HF的方法制备的中孔硅材料(PSi)。生产工艺是容易的和可扩展的,且它可以在温和反应条件下进行。可以直接通过用碱合金(例如NaK合金)还原硅卤化物前体(例如SiCl4)的产生硅。随后,退火所产生的Si盐基体用于孔隙形成和微晶生长。通过用水去除盐副产物获得最终产物。