-
-
公开(公告)号：CN101323587A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810082692.3
申请日：2008-03-06
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C07D209/88
CPC classification number: C07D209/88
Abstract: 本发明提供了一种新型咔唑化合物及其聚合物，所述咔唑化合物如下式(I)所示，其中，各Ar1独立地表示取代或未取代的单价芳族基或者含有杂环的芳族基，且R1和各R2独立地表示氢原子、烷基、取代或未取代的芳基或者取代或未取代的芳烷基。
-
公开(公告)号：CN101318940A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200810082691.9
申请日：2008-03-06
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C07D241/42 , C08G73/06
CPC classification number: C07D241/42 , C07D403/10 , C07D409/10 , C07D413/10 , C08G63/6856 , C08G73/0694 , Y10S428/917
Abstract: 本发明提供了含有喹喔啉的化合物及其聚合物。所述含有喹喔啉的化合物由下述式(I)表示，其中，Ar1表示取代或未取代的单价芳基；且R1表示氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基或者取代或未取代的芳烷基。
-
公开(公告)号：CN101282604A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200810082921.1
申请日：2008-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: H01L51/0035 , H01L51/0038 , H01L51/0039 , H01L51/0081 , H01L51/5012 , H01L51/5048 , H01L51/5088
Abstract: 本发明提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包含：形成电极对的阳极和阴极，其中至少一个电极为透明或半透明的；以及设置在所述阳极和阴极之间的缓冲层和有机化合物层。所述有机化合物层具有包含发光层的一层或一层以上的层。所述有机化合物层中的至少一层包含至少一种特定的电荷输送性聚醚。包含所述电荷输送性聚醚的层中的至少一层设置为与所述缓冲层相接触。所述缓冲层设置为与所述阳极相接触，并且包含选自由无机氧化物、无机氮化物和无机氮氧化物所组成的组中的至少一种电荷注入材料。本发明还提供了使用所述有机电致发光器件的显示装置。
-
公开(公告)号：CN112608473A
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202010127351.4
申请日：2020-02-28
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C08G73/10 , C08L79/08 , C08J5/18 , H01M50/423 , H01M50/403 , H01M10/0525
Abstract: 本发明提供一种可获得膜厚的不均得到抑制的聚酰亚胺膜的聚酰亚胺前体溶液、聚酰亚胺膜的制造方法及锂离子二次电池用隔膜的制造方法。所述聚酰亚胺前体溶液，含有：聚酰亚胺前体，重量平均分子量为20000以上且80000以下；粒子；以及水性溶剂，含有有机胺化合物(A)其中下述水溶性有机溶剂(B)除外、包含选自由N‑甲基‑2‑吡咯烷酮、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮、N,N‑二甲基甲酰胺及N,N‑二甲基乙酰胺所组成的群组中的至少一者的水溶性有机溶剂(B)、及水(C)，所述(A)、所述(B)及所述(C)的含有比〔(A)：(B)：(C)〕以质量比计为0.02以上且0.07以下：0.02以上且0.05以下：0.88以上且0.96以下。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112552682A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010137597.X
申请日：2020-03-02
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C08L79/08 , C08L25/06 , C08J5/18 , H01M50/403
Abstract: 本发明提供一种即使经加热处理，仍可获得膜厚的不均得到抑制的聚酰亚胺膜的聚酰亚胺前体溶液、聚酰亚胺膜的制造方法及锂离子二次电池用隔膜的制造方法。聚酰亚胺前体溶液，含有：粒子；聚酰亚胺前体；以及水性溶剂，含有二甲基亚砜及水，并且相对于所述粒子，所述二甲基亚砜的含量以质量比计为0.15以上且2.00以下。
-
公开(公告)号：CN101323587B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200810082692.3
申请日：2008-03-06
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: C07D209/88
CPC classification number: C07D209/88
Abstract: 本发明提供了一种新型咔唑化合物及其聚合物，所述咔唑化合物如下式(I)所示，其中，各Ar1独立地表示取代或未取代的单价芳族基或者含有杂环的芳族基，且R1和各R2独立地表示氢原子、烷基、取代或未取代的芳基或者取代或未取代的芳烷基。
-
-
公开(公告)号：CN107149943B
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201610681883.6
申请日：2016-08-17
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明涉及一种偏钛酸粒子及其制造方法。本发明的偏钛酸粒子用具有烃基的硅烷化合物进行表面处理，其在紫外‑可见光吸收光谱中波长为约400nm以上且约800nm以下处具有吸收，并且在红外吸收光谱中波数为约2700cm‑1以上且约3000cm‑1以下处具有吸收峰。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
24
records
(took 0.034 seconds)
