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公开(公告)号:CN105814632A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201580003028.3
申请日:2015-05-12
Applicant: 富士电机株式会社
CPC classification number: G11B5/851 , G11B5/64 , G11B5/65 , G11B5/653 , G11B5/66 , G11B5/732 , G11B5/84 , G11B5/8404 , H01F10/123
Abstract: 提供一种包括在维持高的磁各向异性的同时具有期望的膜厚的磁记录层、并且使磁特性更均匀化了的垂直磁记录介质的制造方法。该垂直磁记录介质的制造方法包括:准备非磁性基板的工序;在非磁性基板上层叠磁记录层的工序;以及将层叠有磁记录层的非磁性基板加热到400℃~600℃的温度的工序,其中,工序(B)至少包括形成第1磁记录层的工序和在第1磁记录层上形成第2磁记录层的工序,第1磁记录层具有包括由有序合金构成的第1磁性晶粒和包围它的由碳构成的第1非磁性晶界的粒状构造,第2磁记录层具有包括由有序合金构成的第2磁性晶粒和包围它的通过由硼和碳构成的非磁性材料来构成的第2非磁性晶界的粒状构造。
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公开(公告)号:CN105814632B
公开(公告)日:2018-05-08
申请号:CN201580003028.3
申请日:2015-05-12
Applicant: 富士电机株式会社
CPC classification number: G11B5/851 , G11B5/64 , G11B5/65 , G11B5/653 , G11B5/66 , G11B5/732 , G11B5/84 , G11B5/8404 , H01F10/123
Abstract: 提供一种包括在维持高的磁各向异性的同时具有期望的膜厚的磁记录层、并且使磁特性更均匀化了的垂直磁记录介质的制造方法。该垂直磁记录介质的制造方法包括:准备非磁性基板的工序;在非磁性基板上层叠磁记录层的工序;以及将层叠有磁记录层的非磁性基板加热到400℃~600℃的温度的工序,其中,工序(B)至少包括形成第1磁记录层的工序和在第1磁记录层上形成第2磁记录层的工序,第1磁记录层具有包括由有序合金构成的第1磁性晶粒和包围它的由碳构成的第1非磁性晶界的粒状构造,第2磁记录层具有包括由有序合金构成的第2磁性晶粒和包围它的通过由硼和碳构成的非磁性材料来构成的第2非磁性晶界的粒状构造。
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