公开(公告)号：CN101304814B

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200580021042.2

申请日：2005-06-17

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： A·戴斯 ,  E·贝克 ,  M·比勒尔

IPC: B05D3/06

CPC classification number: G21K5/02 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/066 ,  B05D3/067 ,  B05D3/068

Abstract: 本发明涉及一种用于通过将可辐射固化的化合物暴露于高能辐射而在惰性气氛下固化所述化合物以生产模塑材料和基体上涂层的设备和方法。

公开(公告)号：CN100572358C

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200580020764.6

申请日：2005-06-22

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： C·克内彻 ,  A·韦尔弗特 ,  A·戴斯

IPC: C07C263/10 ,  C07C265/14

CPC classification number: C07C263/10 ,  C07C265/14

Abstract: 本发明涉及一种通过使胺与光气在反应区中气相反应而制备异氰酸酯的方法，其中将反应混合物通过有液体喷入的区中而终止反应。本发明的特征在于反应混合物通过一个位于反应区和有液体喷入的区之间的具有减小的流动截面的区。

公开(公告)号：CN1972905A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200580020764.6

申请日：2005-06-22

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： C·克内彻 ,  A·韦尔弗特 ,  A·戴斯

IPC: C07C263/10 ,  C07C265/14

CPC classification number: C07C263/10 ,  C07C265/14

Abstract: 本发明涉及一种通过使胺与光气在反应区中气相反应而制备异氰酸酯的方法，其中将反应混合物通过有液体喷入的区中而终止反应。本发明的特征在于反应混合物通过一个位于反应区和有液体喷入的区之间的具有减小的流动截面的区。

公开(公告)号：CN101304814A

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200580021042.2

申请日：2005-06-17

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： A·戴斯 ,  E·贝克 ,  M·比勒尔

IPC: B05D3/06

CPC classification number: G21K5/02 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/066 ,  B05D3/067 ,  B05D3/068

Abstract: 本发明涉及一种用于通过将可辐射固化的化合物暴露于高能辐射而在惰性气氛下固化所述化合物以生产模塑材料和基体上涂层的设备和方法。