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公开(公告)号:CN118730866A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202410316468.5
申请日:2024-03-20
Applicant: 希森美康株式会社
IPC: G01N15/1429 , G01N15/1434 , G06F18/24
Abstract: 提供一种分析方法、被检物分析装置以及程序,能够提高利用人工智能算法对分析物的类别的分类精度。本发明的分析方法是对被检物中的分析物进行分析的方法,获取与从分析物得到的光学信号对应的第1数据,将由多个第1数据构成的集合数据输入到能够计算第1数据之间的关联度的人工智能算法,使用关联度来判定分析物的类别。
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公开(公告)号:CN112146963B
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN202010533977.5
申请日:2020-06-12
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 为了维持涂抹标本制作的处理速度并降低染色液的消费量,本发明提供了一种涂抹标本制作装置(100),其具有:染色部(20),具有能配置涂抹有样本的复数个载玻片(10)并且能存放对涂抹于载玻片(10)的样本染色的染色液(15)的复数个染色槽(21);移送部(30),安放载玻片(10)并将其以一定时间间隔移送至染色部(20);流体回路部(40),对染色部(20)的复数个染色槽(21)分别供应染色液(15);控制部(50),与用户的操作相应地决定复数个染色槽(21)中使用于染色处理的染色槽。
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公开(公告)号:CN112676283A
公开(公告)日:2021-04-20
申请号:CN202011108568.7
申请日:2020-10-16
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。该清洗方法是具有染色槽(20)的涂抹标本制作装置(100)的染色槽(20)的清洗方法,染色槽(20)能够收纳涂抹有样本的载玻片(11),并储存对载玻片(11)上涂抹的样本进行染色的染色液(91)来进行染色处理,该清洗方法具备以下工序:接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息对染色槽(20)执行清洗作业的工序。
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公开(公告)号:CN104749388A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:CN201410801406.X
申请日:2014-12-22
Applicant: 希森美康株式会社
IPC: G01N35/00
CPC classification number: G01N1/28 , B01L3/5082 , B01L3/54 , B01L9/06 , B01L2200/023 , B01L2200/143 , B01L2300/021 , B01L2300/044 , B01L2300/0672 , G01N35/026 , G01N2035/00752 , G01N2035/00772 , G01N2035/00801 , G01N2035/041 , G01N2035/0493
Abstract: 本发明提供了一种样本处理装置,包括:用于安放数个样本容器的架,所述架具有与所述数个样本容器的种类相应的架判别部件;用于放置所述架并使所述架既能装上又能拆下的架放置部件;从放置在所述架放置部件的所述架上分别取出并移送所述数个样本容器的容器移送部件;从放置在所述架放置部件的所述架检测所述架判别部件的架检测部件;以及根据所述架检测部件的检测结果控制所述容器移送部件的作业的控制部件。本发明还提供一种架,用于安放数个样本容器,其具有与所述数个样本容器的种类相应的架判别部件。
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公开(公告)号:CN102374947B
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201110221745.7
申请日:2011-08-04
Applicant: 希森美康株式会社
IPC: G01N1/38
CPC classification number: G01N1/38 , G01N35/1002
Abstract: 一种试剂调制装置,向使用试剂来测量检体的检体测量装置提供试剂,所述试剂是通过混合从制造纯水的纯水制造装置提供的纯水和高浓度试剂来调制的,所述试剂调制装置的特征在于,包括:试剂调制部,通过混合从纯水制造装置提供的纯水和高浓度试剂来调制试剂;以及控制部,与所述纯水制造装置可通信地连接,控制所述纯水制造装置,使得从所述纯水制造装置开始纯水制造起经过规定时间为止继续纯水的制造。
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公开(公告)号:CN102334034B
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201080009622.0
申请日:2010-02-26
Applicant: 希森美康株式会社
CPC classification number: G01N35/10 , G01N35/00663 , G01N35/00732 , G01N35/0092 , G01N2035/00465 , G01N2035/00673
Abstract: 本发明提供的试剂制备装置用于制备供给测定部件的一定试剂,该测定部件用含有第一液体和第二液体的所述一定试剂测定样本,该试剂制备装置包括:制备一定试剂的试剂制备部件;获取所制备的一定试剂的相关试剂信息,并获取有关所制备的一定试剂供应给测定部件的时间的供给时间信息,输出试剂信息和供给时间信息的控制部件。
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公开(公告)号:CN118624925A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202410194943.6
申请日:2024-02-22
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明涉及样本分析装置以及样本处理系统,能够减少操作者载置样本支架的频率。使用能够保持多个样本容器(110)的样本支架(100)来分析样本容器(110)内的样本的样本分析装置具备:测定单元(10),所述测定单元测定样本;以及输送单元(20),所述输送单元包括配置在测定单元(10)的前方且能够载置多个样本支架(100)的载置区域(201)和相对于载置区域(201)配置在左右方向且能够载置多个样本支架(100)的载置区域(221),将载置于载置区域(201、221)的样本支架(100)向用于测定单元(10)开始测定的开始位置(P32)输送。
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公开(公告)号:CN118624920A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202410253058.0
申请日:2024-03-06
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本公开涉及检体分析装置以及检体分析方法。增加分析多个检体的情况下的检体分析装置中的每单位时间的检体的处理件数。该检体分析装置(100)具备:架子搬送部(20),搬送收容有多个检体容器(1)的架子(2);搅拌部(12),搅拌检体容器(1)中的检体;吸引部(11),从检体容器(1)吸引检体;容器搬送部(13),在与架子搬送部(20)上的架子(2)、搅拌部(12)以及利用吸引部(11)吸引检体的吸引位置(P6)之间搬送检体容器(1);测定部(16),测定从检体调制出的测定试样;以及控制部(91)。检体分析装置(100)构成为通过控制部(91)的控制,在一个检体容器(1)的搅拌的开始至结束的期间,针对其他检体容器(1)执行向吸引位置(P6)的移送、检体的吸引、以及向架子(2)的返还中的至少一个。
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公开(公告)号:CN107436255B
公开(公告)日:2024-08-16
申请号:CN201710213283.1
申请日:2017-04-01
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明通过控制运送载玻片的收纳用具的运送部件左右方向的尺寸来使涂抹标本制作装置小型化并使需要由用户实施的操作能够更简易地得以执行。本涂抹标本制作装置(400)具有:用于向第一方向运送收纳用具(200)的第一运送部件(210),其中,收纳用具(200)能够在第一方向排列安放复数个载玻片(10);向通过第一运送部件(210)运送的收纳用具(200)移送染色完毕的载玻片(10)的玻片移送部件(120);与第一运送部件(210)相邻设置,且用于将收放了通过玻片移送部件(120)移送的载玻片(10)的收纳用具(200)向与第一方向相反的第二方向运送的第二运送部件(220)。
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公开(公告)号:CN108687087B
公开(公告)日:2022-05-13
申请号:CN201810262995.7
申请日:2018-03-28
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂抹构件的清洗方法,该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态,同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中,向载玻片10上滴下清洗剂11,让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触,清洗涂抹构件42。
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