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公开(公告)号：CN108823541B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN201810585687.8
申请日：2018-06-06
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及纳米结构的制造领域，特别涉及一种表面增强拉曼散射活性基底的制备方法。本发明解决了表面增强拉曼散射活性基底制备方法的技术问题。该制备方法包括：I、利用两步氧化法制备多孔阳极氧化铝模板；II、利用磁控溅射技术将银沉积到多孔氧化铝模板表面漏斗形开口表面；III、利用湿化学腐蚀法先后将剩余的铝基底和多孔阳极氧化铝层去除，从而得到具有表面增强拉曼散射效应的银纳米火山岛阵列。本发明的表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法具有成本低廉，实施简单，适合大面积生产等优点，有望被用于基于表面增强拉曼散射的化学生物分析。
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公开(公告)号：CN108823541A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810585687.8
申请日：2018-06-06
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及纳米结构的制造领域，特别涉及一种表面增强拉曼散射活性基底的制备方法。本发明解决了表面增强拉曼散射活性基底制备方法的技术问题。该制备方法包括：I、利用两步氧化法制备多孔阳极氧化铝模板；II、利用磁控溅射技术将银沉积到多孔氧化铝模板表面漏斗形开口表面；III、利用湿化学腐蚀法先后将剩余的铝基底和多孔阳极氧化铝层去除，从而得到具有表面增强拉曼散射效应的银纳米火山岛阵列。本发明的表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法具有成本低廉，实施简单，适合大面积生产等优点，有望被用于基于表面增强拉曼散射的化学生物分析。
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公开(公告)号：CN104178731A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410410634.4
申请日：2014-08-20
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及一种WO3薄膜的制备方法，用离子束溅射沉积技术结合后续退火处理工艺制备具有优良光学性能的电致变色WO3薄膜，并通过控制WO3薄膜中缺氧相强度来实现对光学调制性能的调控。以ITO导电玻璃为衬底，用离子束溅沉积技术制备WOx薄膜，用99.999%纯O2作为退火气氛，在不同温度下对WOx薄膜作不同时间的退火处理，制备含缺氧相的WO3薄膜。对WO3薄膜进行Li+电化学着褪色反应，施加着褪色电压后，所制备的电致变色WO3薄膜着色态积分透射率低，缺氧相强度可调，光学调制幅度大且可控性好。WO3薄膜制备工艺简单，有望应用于灵巧窗、电子信息显示器、无眩反光镜等领域。
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公开(公告)号：CN110844879B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201911111539.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种非晶纳米线与多孔薄膜的原位可操控键合方法，将纳米线分散到具有多孔薄膜结构的透射电镜（TEM）样品上，之后放入TEM中，选取自由端突出到多孔薄膜孔洞中的纳米线片段，在TEM的观察下按“纳米线削尖—纳米线弯钩—纳米线键合”工艺进行键合处理。本发明利用透射电镜中高能电子束有针对性辐照，实现了非晶纳米线的削尖、弯钩，并最终与多孔薄膜高质量键合在一起，具有原位、灵活可操控、高精度、低温键合等优点。
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公开(公告)号：CN108707944B
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201810585674.0
申请日：2018-06-06
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及一种多孔阳极氧化铝模板的制备方法。解决了传统多孔阳极氧化铝的孔洞排列方式单一和非传统多孔阳极氧化铝制备成本高昂，制备复杂而不适于大面积生产的技术问题。该制备方法包括：清洗铝箔并进行电化学抛光处理；将传统多孔阳极氧化铝作为压印印章，通过机械压印的方法，在铝箔表面形成六角密堆排列的三维纳米凸起图案；将表面印有六角密堆排列的三维纳米凸起图案的铝箔置于酸性电解液中进行氧化，从而得到表面具有六角密堆排列的三维纳米凸起的多孔阳极氧化铝模板。该制备方法具有成本低，实施简单，适于大面积生产等优点，有望被用于批量生产新型多孔阳极氧化铝模板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104651790B
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201510076766.2
申请日：2015-02-12
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种金属电阻率Cu/Cu2O半导体弥散复合薄膜及其制备方法，目的是提供一种具有金属级电阻率和太阳窗口半导体带隙的Cu/Cu2O弥散复合薄膜及其制备方法。本发明采用平衡磁控溅射镀膜系统，通过直流物理溅射高纯铜靶，在玻璃衬底上沉积了Cu/Cu2O弥散复合薄膜，并通过控制衬底偏压来调节复合薄膜的电阻率和禁带宽度。本发明工艺简单，操作方便，成本降低。本发明制备的Cu/Cu2O弥散复合薄膜，具有大面积、均匀和表面平整等特点，其电阻率为(5.23～9.98)×10‑5Ω·cm，禁带宽度为(2.23～2.47)eV，同时具有金属和半导体双重特性，在太阳能电池、电极材料和光催化等领域具有潜在应用前景。
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公开(公告)号：CN105154985A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201510520212.7
申请日：2015-08-24
Applicant: 常州大学
IPC: C30B33/10 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/02363 , C30B33/10
Abstract: 本发明涉及金属氧化物薄膜及其制备方法，尤其是涉及一种双结构绒面Cu2O薄膜及其制备方法。本发明利用射频平衡磁控溅射镀膜系统，通过施加正、负衬底偏压，一方面诱使溅射Cu原子在正在沉积的薄膜表面尖端处进行选择性优先沉积，然后与腔室中残余的氧发生接触氧化成Cu2O分子，另一方面诱使薄膜体系尽可能地降低能量，沿（111）方向生长并在薄膜表面形成（111）面的棱锥结构，从而获得双结构绒面Cu2O薄膜。本发明制备的Cu2O薄膜的可见光平均反射率与所施加的衬底偏压密切相关，通过控制衬底偏压能够可控制备不同反射率的双结构绒面Cu2O薄膜，具有环保、简易、减反射性能良好等优点，在薄膜太阳能电池等领域具有潜在应用前景。
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公开(公告)号：CN103014626A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210544649.0
申请日：2012-12-17
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔铜（NPC）薄膜的制备方法，目的是提供包括一种多孔的三棱柱状结构和一种双连续的“三角韧带–孔道”结构在内的NPC薄膜的磁控溅射制备方法。本发明利用射频平衡磁控溅射镀膜系统，以绝缘载玻片为间接衬底，先在载玻片上沉积一层具有粗糙表面的金属铜薄膜作直接衬底，然后施加衬底负偏压，利用尖端集电原理诱使入射铜原子在直接衬底上进行选择性优先沉积，从而获得各向异性的NPC薄膜。本发明制备的NPC薄膜的形貌取决于直接衬底铜膜的形貌，通过控制衬底的形貌能够可控地制备不同结构的NPC薄膜，具有工艺简单、大面积、均匀性好、各向异性等优点，在太阳能薄膜电池、催化、传感器、生物探测等领域具有潜在应用前景。
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公开(公告)号：CN114574805B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202210094992.3
申请日：2022-01-26
Applicant: 常州大学
IPC: C23C14/08 , C23C14/35 , C23C14/58 , G02F1/1524
Abstract: 本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜电致变色效率的方法。用射频磁控溅射法在ITO玻璃衬底上制备了非晶WO3薄膜，然后在含量为99.7％的无水乙醇中充分浸泡后取出烘干，其在676.2nm波长处的光学调制最高可以提高35％～44％，电致变色效率大幅度提高。本发明利用射频磁控溅射法进行非晶WO3薄膜的沉积，它具有膜层均匀、膜基附着性好、易于大面积制备、重复性高和无需反应气体氧气等特点，而且乙醇浸泡处理方法简单、高效，制备成本低廉。
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公开(公告)号：CN110592548B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201911010620.2
申请日：2019-10-23
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法，选取表面具有绒面结构的Si片作为衬底放入磁控溅射镀膜设备，并将Si片衬底为绒面结构的一侧对准铜靶放置，同时施加直流衬底偏压，在真空腔室中进行溅射，在Si片表面沉积一层具有复合结构的CuO薄膜。本发明通过利用Si片表面的金字塔状绒面结构，由于受到了尖端集电效应的作用，从而使得材料原子在Si片金字塔状绒面上不同位置具有不同的沉积速率，得到各个位置膜厚、均匀度各不相同的复合结构的CuO薄膜，从而增加CuO薄膜性能的多样性，便于其应用在有多方面要求的环境中。
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