公开(公告)号：CN105821393B

公开(公告)日：2019-09-10

申请号：CN201610023480.2

申请日：2016-01-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： T·E·佐藤 ,  E·纽曼

IPC: C23C16/455

Abstract: 一种沉积膜的方法，所述方法包含以下步骤：在具有多个处理区域的处理腔室中的基板支撑件上定位多个基板，通过气幕使每一个处理区域与相邻的区域分开。在处理区域中的至少一个处理区域中交替向第一反应性气体、净化气体、第二反应性气体和净化气体的暴露以沉积膜。

公开(公告)号：CN107208266A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680007014.3

申请日：2016-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  K·格里芬 ,  A·米勒 ,  J·托宾 ,  E·纽曼 ,  T·E·佐藤 ,  P·M·刘

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/4584

Abstract: 公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统，所述气体递送系统包含第一气体和第二气体，所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部，并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。

公开(公告)号：CN105821393A

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201610023480.2

申请日：2016-01-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： T·E·佐藤 ,  E·纽曼

IPC: C23C16/455

Abstract: 一种沉积膜的方法，所述方法包含以下步骤：在具有多个处理区域的处理腔室中的基板支撑件上定位多个基板，通过气幕使每一个处理区域与相邻的区域分开。在处理区域中的至少一个处理区域中交替向第一反应性气体、净化气体、第二反应性气体和净化气体的暴露以沉积膜。

公开(公告)号：CN117604502A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202311531989.4

申请日：2016-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  K·格里芬 ,  A·米勒 ,  J·托宾 ,  E·纽曼 ,  T·E·佐藤 ,  P·M·刘

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458

Abstract: 本申请涉及用于空间上分离的原子层沉积腔室的改进的注射器。公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统，所述气体递送系统包含第一气体和第二气体，所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部，并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。