公开(公告)号：CN1067990C

公开(公告)日：2001-07-04

申请号：CN97118502.6

申请日：1997-08-06

Applicant: 恩尼彻姆公司

Inventor： A·卡拉逖 ,  C·普里格 ,  L·达劳罗 ,  G·狄阿尔伯逖 ,  S·帕尔莫里

IPC: C07D223/10 ,  C07C231/10

CPC classification number: B01J35/10 ,  B01J21/12 ,  B01J35/1023 ,  B01J35/1061 ,  C07D201/04

Abstract: 通过肟的催化重排制备酰胺的方法，包括使在蒸气相中的肟与选自摩尔比SiO2/Al2O2在20-1000之间、平均孔径在20-100A之间、煅烧后粉末的X-射线衍射图形(XRD)在大于18A的d-间距(spacing)处(2θ＜4.9°，CuKα辐射)具有最强(deepest)反射的中孔硅铝催化剂相接触。

公开(公告)号：CN1177594A

公开(公告)日：1998-04-01

申请号：CN97118502.6

申请日：1997-08-06

Applicant: 恩尼彻姆公司

Inventor： A·卡拉逖 ,  C·普里格 ,  L·达劳罗 ,  G·狄阿尔伯逖 ,  S·帕尔莫里

IPC: C07D223/10 ,  C07C231/10

CPC classification number: B01J35/10 ,  B01J21/12 ,  B01J35/1023 ,  B01J35/1061 ,  C07D201/04

Abstract: 通过肟的催化重排制备酰胺的方法,包括使在蒸气相中的肟与选自摩尔比SiO2/Al2O2在20—1000之间、平均孔径在20—100之间、煅烧后粉末的X－射线衍射图形(XRD)在大于18的d－间距(spacing)处(2θ