Patent search ap:("拓自达电线株式会社") AND inv:"大塚侑平" Page 1

1.

发明公开
喷嘴和成膜方法审中-实审

公开(公告)号：CN118742671A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380023397.3

申请日：2023-02-13

Applicant: 拓自达电线株式会社

Inventor： 平野正树 , 大塚侑平

IPC: C23C24/04 , B05B7/16

Abstract: 在冷喷涂法等喷镀法中使用的喷嘴(2b)具备供作为成膜原料的粉末(10)和工作气体通过的喷嘴管(23)。喷嘴管(23)具有表面粗糙度Sa为粉末(10)的粒度分布的累积粒径D10的25％以下的内周面。

Patent Agency Ranking