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公开(公告)号：CN101380723A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200710147699.4
申请日：2007-09-07
Applicant: 斗山MECATEC株式会社
IPC: B24B29/00 , H01L21/304 , B24B55/00
Abstract: 公开了一种化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置，所述清洁刷升降装置使用于清洁晶圆上的杂质的清洁刷上下升降，并且所述清洁刷升降装置包括：机架；基准刷，所述基准刷由所述机架可旋转地支撑；升降块，所述升降块安装在所述机架上，以使所述升降块能够上下升降；升降刷，所述升降刷可旋转地安装在所述升降块上，所述升降刷与所述升降块一起升降，同时靠近或远离所述基准刷；以及线性电机，所述线性电机用于升降所述升降块。所述装置可以降低产品的单位成本、生产成本，缩短生产时间。此外，还具有尺寸小、重量轻，并且能够精确地控制升降驱动的优点。
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