公开(公告)号：CN113348017A

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN202080011150.6

申请日：2020-01-30

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 西野泰斗 ,  相原彩子 ,  大冢敬一朗 ,  岩胁卓巳 ,  三岛巧 ,  灶浦政宏 ,  深泽菜月 ,  中嶋宏之 ,  繁田幸宏 ,  岩元寿公

IPC: A61P1/04 ,  A61K31/381 ,  A61K31/44 ,  A61K31/4402 ,  A61K31/4406 ,  A61K31/4409 ,  C07D235/04 ,  C07D333/20 ,  A61P17/00 ,  A61P17/02 ,  C07D213/40 ,  C07D213/65 ,  C07D213/74 ,  C12N5/00 ,  C12N5/07 ,  C07D239/28 ,  C07D307/52 ,  C12N9/99 ,  A61K31/341 ,  A61P1/16 ,  A61P9/10 ,  A61P21/02 ,  A61P21/04 ,  A61P25/00 ,  A61P25/28 ,  A61P27/02 ,  A61P29/00 ,  A61P43/00

Abstract: 本发明的目的在于提供在细胞培养(尤其是三维细胞培养)中能够促进细胞增殖的新颖化合物。式(I)表示的酰肼化合物或其盐、及包含其的组合物能够显著地促进细胞的增殖、球状体形成、胞囊形成及/或类器官形成，此外，能够显著地抑制LATS1、LATS2等激酶的活性。式中，各符号如说明书中所定义。

公开(公告)号：CN110337495B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN201880008585.8

申请日：2018-02-06

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 入山友辅 ,  中嶋宏之 ,  金木达朗 ,  丹羽雅俊

IPC: C12N15/113 ,  A61K31/7088

Abstract: 本发明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的单链寡核苷酸。其为由式(I)表示的、X和Y通过第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分进行杂交的单链寡核苷酸。X由7～100个核苷酸形成，且包含至少1个修饰核苷酸，具有能与第二寡核苷酸杂交的第一核苷酸序列。Y由4～100个核苷酸形成，具有能与所述第一寡核苷酸杂交、且包含至少1个核糖核苷酸的第二核苷酸序列。核苷酸序列X、Xz及Y中的至少一者具有能与靶RNA杂交的反义序列。L、Lx及Ly中的至少一者为包含非核苷酸结构的连接基团。#imgabs0#

公开(公告)号：CN113423745B

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202080013307.9

申请日：2020-02-12

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 广饭美耶 ,  广井佳臣 ,  铃木康平 ,  庄子武明 ,  安部菜月 ,  中嶋宏之

IPC: C08F220/34 ,  C08F230/02 ,  C09D133/14

Abstract: 本发明提供使用具有特定的不饱和键的单体而进行的不引起凝胶化问题的含有共聚物的清漆的制造方法、组合物的制造方法、涂覆膜的制造方法、优选具有与生物材料的相容性(具有抑制生物材料附着的能力、细胞培养促进性)的涂覆膜的制造方法。含有共聚物的清漆的制造方法，其包括：使包含由下述式(1)及式(2)表示的化合物的单体混合物在聚合用溶剂中、在自由基聚合引发剂存在下共聚的工序，所述单体混合物包含的含磷化合物中的、由式(1)表示的化合物的质量％为70质量％以上。1(式(1)中，R 表

公开(公告)号：CN116064544A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202211379310.X

申请日：2017-01-26

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 入山友辅 ,  中嶋宏之 ,  金木达朗

IPC: C12N15/113 ,  A61K31/7105 ,  A61K31/711 ,  A61P3/00 ,  A61P31/00 ,  A61P35/00

Abstract: 本申请涉及单链寡核苷酸。本发明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的单链寡核苷酸。其为由式X‑L‑Y表示、X和Y以第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分进行杂交的单链寡核苷酸。X由7～100个核苷酸形成，包含至少1个修饰核苷酸，具有能与第二寡核苷酸杂交、且含有可被RNaseH识别的至少4个连续核苷酸的第一核苷酸序列。Y由4～100个核苷酸形成，具有能与所述第一寡核苷酸杂交、且含有至少1个核糖核苷酸的第二核苷酸序列。核苷酸序列X及Y中的至少一者具有能与靶RNA杂交的反义序列。L为来源于在生理条件下被分解的第三寡核苷酸的基团。

公开(公告)号：CN118202011A

公开(公告)日：2024-06-14

申请号：CN202280073156.5

申请日：2022-11-02

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 上田祐挥 ,  广井佳臣 ,  铃木康平 ,  广饭美耶 ,  中嶋宏之 ,  屉月仁词

IPC: C09D143/02 ,  C09D5/16 ,  C07K16/00 ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  C08F230/02 ,  C09D133/04 ,  C09D133/14 ,  C09D157/06 ,  C09D7/65

Abstract: 本发明提供取得了所期望性能的均衡性的涂覆膜。本发明提供涂覆膜形成用组合物、作为其固化物的涂覆膜及其制造方法、以及固化物及其制造方法，所述涂覆膜形成用组合物包含(1)单体混合物的聚合物、以及(2)含有下述式(E)表示的结构的聚碳化二亚胺，所述单体混合物是包含下述式(A)至(D)(式中，Ta、Tb、Tc、Td、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2、Ub3、Qa、Qb、Qc、Ra、Rb、Rc、Rd、An‑、m及n如说明书及权利要求书所记载)表示的单体的单体混合物，相对于前述单体混合物中包含的全部单体而言的、前述式(A)表示的阴离子性单体及前述式(B)表示的阳离子性单体的合计比例为40摩尔％以上。#imgabs0#

公开(公告)号：CN111868244A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980019422.4

申请日：2019-03-20

Applicant: 国立大学法人东京工业大学 ,  日产化学株式会社

Inventor： 正木庆昭 ,  清尾康志 ,  井上敦 ,  入山友辅 ,  金木达朗 ,  中嶋宏之

IPC: C12N15/113 ,  A61K31/712 ,  A61K31/7125 ,  A61K47/61 ,  A61K47/64 ,  A61K47/68 ,  A61K48/00 ,  A61P3/00 ,  A61P9/00 ,  A61P27/02 ,  A61P29/00 ,  A61P31/00 ,  A61P35/00 ,  A61P37/06

Abstract: 提供降低了毒性的反义寡核苷酸。反义寡核苷酸，其是具有中央区域、5’侧区域及3’侧区域的反义寡核苷酸，其特征在于，在中央区域具有将糖部分的2’位与3’位桥联而成的核苷酸(2’‑3’桥联核苷酸)及/或在3’位具有取代基的非桥联的核苷酸(3’位修饰非桥联核苷酸)。

公开(公告)号：CN110337495A

公开(公告)日：2019-10-15

申请号：CN201880008585.8

申请日：2018-02-06

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 入山友辅 ,  中嶋宏之 ,  金木达朗 ,  丹羽雅俊

IPC: C12N15/113 ,  A61K31/7088

Abstract: 本发明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的单链寡核苷酸。其为由式(I)表示的、X和Y通过第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分进行杂交的单链寡核苷酸。X由7～100个核苷酸形成，且包含至少1个修饰核苷酸，具有能与第二寡核苷酸杂交的第一核苷酸序列。Y由4～100个核苷酸形成，具有能与所述第一寡核苷酸杂交、且包含至少1个核糖核苷酸的第二核苷酸序列。核苷酸序列X、Xz及Y中的至少一者具有能与靶RNA杂交的反义序列。L、Lx及Ly中的至少一者为包含非核苷酸结构的连接基团。

公开(公告)号：CN115698206B

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202180043413.6

申请日：2021-06-18

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 广井佳臣 ,  中嶋宏之 ,  西野泰斗 ,  广饭美耶 ,  上田祐挥

IPC: C09D201/06 ,  C09D133/04

Abstract: 本发明提供包含含磷酸基聚合物的涂覆膜形成组合物、作为该组合物的固化物的涂覆膜，所述涂覆膜形成组合物能通过简易的工艺在基板上成膜，并且能够在包含水的溶剂环境下维持膜性能。涂覆膜形成组合物，其包含：聚合物(P)，其为含有羟基的聚合物(P)，并且该羟基仅来自磷酸基；聚碳二亚胺(C)，其包含下述式(c‑1)表示的结构；和溶剂。‑N＝C＝N‑ (c‑1)。

公开(公告)号：CN115698206A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202180043413.6

申请日：2021-06-18

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 广井佳臣 ,  中嶋宏之 ,  西野泰斗 ,  广饭美耶 ,  上田祐挥

IPC: C09D201/06 ,  C09D133/04

Abstract: 本发明提供包含含磷酸基聚合物的涂覆膜形成组合物、作为该组合物的固化物的涂覆膜，所述涂覆膜形成组合物能通过简易的工艺在基板上成膜，并且能够在包含水的溶剂环境下维持膜性能。涂覆膜形成组合物，其包含：聚合物(P)，其为含有羟基的聚合物(P)，并且该羟基仅来自磷酸基；聚碳二亚胺(C)，其包含下述式(c‑1)表示的结构；和溶剂。‑N＝C＝N‑ (c‑1)。

公开(公告)号：CN108884462B

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN201780008239.5

申请日：2017-01-26

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 入山友辅 ,  中嶋宏之 ,  金木达朗

IPC: C12N15/113 ,  A61K31/7088 ,  A61K48/00 ,  C12P19/34

Abstract: 本发明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的单链寡核苷酸。其为由式X‑L‑Y表示、X和Y以第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分进行杂交的单链寡核苷酸。X由7～100个核苷酸形成，包含至少1个修饰核苷酸，具有能与第二寡核苷酸杂交、且含有可被RNaseH识别的至少4个连续核苷酸的第一核苷酸序列。Y由4～100个核苷酸形成，具有能与所述第一寡核苷酸杂交、且含有至少1个核糖核苷酸的第二核苷酸序列。核苷酸序列X及Y中的至少一者具有能与靶RNA杂交的反义序列。L为来源于在生理条件下被分解的第三寡核苷酸的基团。