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公开(公告)号：CN109153851B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN201780031564.3
申请日：2017-05-23
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G73/10 , C08K5/3415 , C09D179/08
Abstract: 本发明提供例如包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。(式中，X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团，Y表示2价的芳族基团，Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的芳族基团，在X为由下述式(3)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(6)或式(7)表示的芳族基团，m表示自然数。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115003505A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010736.5
申请日：2021-01-20
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其包含下述(A)～(E)成分，该组合物在碱玻璃基板上涂布后于300℃以下烧成的膜与有机系膜接触的情况下，具有0.2N/25mm以下的剥离力。(A)包含由下述式(1)所表示的重复单元的聚脲、(式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的支链状的烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。)(B)磺酸化合物或其盐、(C)选自具有被羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a1)所表示的重复单元、由下述式(b)所表示的重复单元和由下述式(c)所表示的重复单元的高分子添加剂：相对于100质量份的(A)聚脲为3～100质量份、(E)溶剂。
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公开(公告)号：CN114945633A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202080090160.3
申请日：2020-12-23
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的交联剂、(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。(式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB为至少1个氢原子被氟原子取代的碳数3或4的支链状的烷基，RC为具有1～4个羟基的碳数6～20的多环式烷基，RD为碳数6～20的多环式烷基或碳数6～12的芳基。)
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公开(公告)号：CN108884316B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201780018985.2
申请日：2017-03-17
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明提供用于制造电子器件用基板的聚羟基酰胺组合物，其包含：(A)含有由式(1)表示的单元和由式(2)表示的单元的聚羟基酰胺、和(B)有机溶剂。式(1)和式(2)中，X1表示在与和氮原子结合的碳原子邻接的碳原子上具有羟基的亚联苯基；Y1表示碳数6～14的2价的芳香族基团；Y2表示由式(3)表示的基团；n和m表示满足0＜n＜100、0＜m＜100和0＜n+m≤100的正数。式(3)中，Z1表示‑O‑、‑NH‑或‑N(R)‑，R表示碳数1～10的烷基；Ar1和Ar2相互独立地表示碳数6～14的2价的芳香族基团；虚线表示键合端。
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公开(公告)号：CN111699218A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201980008617.9
申请日：2019-01-15
Applicant: 日产化学株式会社
Inventor： 江原和也
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种树脂组合物，该树脂组合物提供维持耐热性优异、延迟低、柔韧性优异、且透明性也优异之类的优异的性能，并且能容易地从支承基材、在支承基材上形成的剥离层剥离、作为柔性显示器基板等柔性装置基板的基膜具有优异的性能的塑料薄膜。一种有机无机杂化树脂组合物，其特征在于，含有下述(A)成分、(B)成分以及(C)成分。(A)成分：用具有2个碳原子数6至18的芳香族基团或具有1个碳原子数7至18的芳香族基团的烷氧基硅烷化合物对微粒表面进行了改性的、平均粒径1nm至100nm的无机微粒，(B)成分：具有氟的聚酰亚胺，(C)成分：有机溶剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110050013A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201780075575.1
申请日：2017-12-07
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明提供剥离层的制造方法，其中，将包含聚酰胺酸及有机溶剂的剥离层形成用组合物涂布于基体、在最高温度400℃以上进行烧成，所述聚酰胺酸包含由式(1)表示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分与包含选自在至少一个氨基的邻位具有至少一个羟基的芳香族二胺、在至少一个氨基的邻位具有至少一个巯基的芳香族二胺、及具有羧基的芳香族二胺中的至少一种芳香族二胺的二胺成分反应而得到。(式(1)中，X1表示选自4价的苯环、2个以上的苯环之间缩环而成的4价的基团、2个以上的苯环之间经由单键结合而成的4价的基团中的4价的基团。)。
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公开(公告)号：CN109563341A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780046641.2
申请日：2017-08-03
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L79/08 , B32B27/34 , C08K5/20 , C08K5/3415 , C09D179/08 , H05K3/00
CPC classification number: B32B27/34 , C08K5/20 , C08K5/3415 , C08L79/08 , C09D179/08 , H05K3/00
Abstract: 本发明提供用于透明树脂基板的剥离层形成用组合物，是包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物，二胺成分包含具有酯键和/或醚键的芳族二胺以及不具有酯键和醚键的芳族二胺中的至少一者，四羧酸二酐成分包含具有酯键和/或醚键的芳族四羧酸二酐以及不具有酯键和醚键的芳族四羧酸二酐中的至少一者，二胺成分和四羧酸二酐成分中的至少一者包含具有酯键和/或醚键的成分。
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公开(公告)号：CN119894824A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202480004044.3
申请日：2024-07-26
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/12 , C01B33/145 , C08K3/36 , C08L83/04 , C08L101/00
Abstract: 本发明涉及含有稳定性高的中空二氧化硅粒子的水性溶胶和有机溶剂溶胶，进而涉及使保存稳定性降低了的上述溶胶的稳定性提高的方法和其制造方法。为此提供了一种中空硅溶胶，含有在外壳的内部具有空间的中空二氧化硅粒子和1价碱金属离子，以将该1价碱金属离子换算成M2O(M表示1价碱金属原子)而得的摩尔数相对于中空二氧化硅粒子的SiO2的摩尔数为7.12×10‑6～285×10‑6的比例的方式含有中空二氧化硅粒子和1价碱金属离子，将该溶胶在50℃下保管48小时后通过动态光散射法测得的平均粒径，与该保管前通过动态光散射法测得的平均粒径相比在2.0倍以内的范围内。通过动态光散射法测得的平均粒径为20～150nm。一种稳定化方法，在动态光散射法粒径值比制造时增大了的中空硅溶胶中按照1价碱金属离子相对于该中空硅溶胶中的中空二氧化硅粒子的SiO2成为上述比例的方式添加1价碱金属离子，使增大了的动态光散射法粒径值降低。
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公开(公告)号：CN111699218B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201980008617.9
申请日：2019-01-15
Applicant: 日产化学株式会社
Inventor： 江原和也
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种树脂组合物，该树脂组合物提供维持耐热性优异、延迟低、柔韧性优异、且透明性也优异之类的优异的性能，并且能容易地从支承基材、在支承基材上形成的剥离层剥离、作为柔性显示器基板等柔性装置基板的基膜具有优异的性能的塑料薄膜。一种有机无机杂化树脂组合物，其特征在于，含有下述(A)成分、(B)成分以及(C)成分。(A)成分：用具有2个碳原子数6至18的芳香族基团或具有1个碳原子数7至18的芳香族基团的烷氧基硅烷化合物对微粒表面进行了改性的、平均粒径1nm至100nm的无机微粒，(B)成分：具有氟的聚酰亚胺，(C)成分：有机溶剂。
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公开(公告)号：CN109476951B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN201780046634.2
申请日：2017-08-03
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C09D179/08 , B32B27/00 , B32B27/34 , C08G73/10 , C08L79/08
Abstract: 本发明提供包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。式中，X表示由下述式(2a)或(2b)表示的芳族基团，Y表示具有氟原子的2价的芳族基团，Z在X为式(2a)的情况下，相互独立地表示由下述式(3a)或(4a)表示的芳族基团，在X为式(2b)的情况下，相互独立地表示由下述式(3b)或(4b)表示的芳族基团，m表示自然数。
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