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公开(公告)号：CN101857969B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201010143526.7
申请日：2010-03-25
Applicant: 日本超精石英株式会社
IPC: C30B15/10
CPC classification number: C30B15/10 , C30B29/06 , C30B35/002
Abstract: 本发明提供一种石英玻璃坩埚，其可以在短时间内熔融硅原料，且可以借由不透明石英玻璃层随时间经过的状态变化而使硅单晶的制造良率提高。本发明的石英玻璃坩埚包括：设置在外表面侧的含有多个气泡的不透明石英玻璃层11、及设置在内表面侧的实质上不含气泡的透明石英玻璃层12。不透明石英玻璃层11所含的气泡的直径分布为：具有10～30μm的直径的气泡为10％以上且小于30％，具有40～90μm的直径的气泡为40％以上且小于80％，具有90μm以上的直径的气泡为10％以上且小于30％。不透明石英玻璃层11中的相对较小的气泡从提拉步骤的初期阶段起即有助于坩埚的传热性，相对较大的气泡借由经过长时间的提拉步骤而膨胀，在提拉步骤的后半期大大有助于坩埚的保温性。
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公开(公告)号：CN102575381B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201080040012.7
申请日：2010-08-20
Applicant: 日本超精石英株式会社
CPC classification number: C03B19/095 , C30B15/10 , C30B29/06 , C30B29/18 , C30B35/002 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
Abstract: 本发明提供一种在单晶硅提拉中的高温下抑制发生沉入现象的氧化硅玻璃坩埚及其制造方法。氧化硅玻璃坩埚(10)具有：设置在坩埚外表面侧的含有多个气泡的不透明氧化硅玻璃层(11)，以及设置在坩埚内表面侧的透明氧化硅玻璃层(12)，其中，不透明氧化硅玻璃层(11)包括设置在坩埚上部的第一不透明氧化硅玻璃部分(11a)和设置在坩埚下部的第二不透明氧化硅玻璃部分(11b)。第二不透明氧化硅玻璃部分(11b)的比重是1.7～2.1，第一不透明氧化硅玻璃部分的比重是1.4～1.8，第一不透明氧化硅玻璃部分的比重小于第二不透明氧化硅玻璃部分的比重。第一不透明氧化硅玻璃部分(11a)相较于第二不透明氧化硅玻璃部分(11b)，其原料氧化硅粉的粒度分布宽，并且，含有更多微粉。
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公开(公告)号：CN102471926A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080037429.8
申请日：2010-08-20
Applicant: 日本超精石英株式会社
CPC classification number: C04B41/5022 , C03B5/025 , C03B19/02 , C03B19/09 , C03B19/095 , C03C17/004 , C03C17/02 , C03C2217/213 , C03C2218/13 , C03C2218/17 , C04B35/185 , C04B41/009 , C04B41/86 , C04B2235/6027 , C30B15/10 , C30B29/06 , C30B35/002 , Y02P40/57 , Y10T117/1032 , C04B41/4527
Abstract: 提供适用于耐热强度高且长时间的提拉，并且能以低成本制造的坩埚及其制造方法。复合坩埚(10)具有以氧化铝和氧化硅作为主成分的莫来石所构成的坩埚本体(11)以及形成于坩埚本体(11)的内表面侧的透明氧化硅玻璃层(12)，作为坩埚的基本材料使用莫来石(3Al2O3·2SiO2)，透明氧化硅玻璃层(12)的厚度比坩埚本体(11)的厚度薄。坩埚本体(11)能根据粉浆滑浇铸法来形成，透明氧化硅玻璃层(12)能根据喷涂法来形成。
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公开(公告)号：CN101624258A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200810210328.0
申请日：2008-07-10
Applicant: 日本超精石英株式会社
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/095
Abstract: 本发明为石英玻璃坩埚的制造方法，其是对充填在模具内表面的石英粉成形体抽真空的同时进行电弧熔融的坩埚的制造方法，其特征在于，从石英粉成形体的缘端开始石英粉的熔融，其后，降下电弧电极或提起模具，从缘端加热熔融下侧部分，优选在从电弧熔融开始到电弧总时间的10％以内的时间内，将坩埚内表面密封，另外密封厚度为3mm以下。
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公开(公告)号：CN102531342A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110392625.3
申请日：2011-12-01
Applicant: 日本超精石英株式会社
IPC: C03B19/09
CPC classification number: C03B19/095
Abstract: 本发明提供一种氧化硅玻璃坩埚制造装置，该氧化硅玻璃坩埚制造装置具有既可移动且能调整电弧放电产生的加热温度的电极，又能缩小间隔壁的通孔与插入该通孔的电极间之间隙的结构。在旋转模具10上方设置板状的间隔壁15，用于加热熔化的电极13插入在贯穿间隔壁15厚方向的通孔16，且向旋转模具10延伸而设置，在间隔壁15上设置使电极13在虚拟摆动轴P周围摆动的摆动单元40，虚拟摆动轴P通过所述通孔16的内部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101970362A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980104583.X
申请日：2009-02-04
Applicant: 日本超精石英株式会社
Inventor： 神田稔
Abstract: 本发明提供一种石英玻璃坩埚，该石英玻璃坩埚的外表面层由天然石英玻璃形成，内面层由合成石英玻璃形成。直筒部具有朝向上方并向外侧展开的形状，优选的，向外侧展开部分的下端和上端的内径差是0.1％以上，并且，角部的合成石英玻璃内面层的层厚是角部中央部分壁厚的20％以上～80％以下，直筒部及底部的合成石英玻璃内面层薄于角部的合成石英玻璃内面层。本发明提供一种即使是大口径的坩埚也在提拉时的高温下上难以产生内倒变形的石英玻璃坩埚。
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公开(公告)号：CN101618941A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200810215444.1
申请日：2008-07-04
Applicant: 日本超精石英株式会社
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/095
Abstract: 本发明提供弯曲部和底部未被过度加热，形状的成形性优异，并且内部气泡少的石英玻璃坩埚的制造方法。一种石英玻璃坩埚的制造方法，其是一边对充填于旋转模具中的石英粉成形体进行抽真空一边进行电弧熔融而制造石英玻璃坩埚的方法，其特征在于，在电弧熔融开始或电弧熔融中将电极相对于模具中心线相对地向侧方移动，在偏心的位置进行电弧熔融。石英玻璃坩埚的制造方法优选整体加热的时间为电弧熔融总时间的60％以下。
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公开(公告)号：CN101605732A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880000318.2
申请日：2008-11-28
Applicant: 日本超精石英株式会社
CPC classification number: C03B19/095 , C30B15/10 , Y02P40/57
Abstract: 一种石英玻璃坩埚的制造方法，是基于旋转模塑法的制造石英玻璃坩埚的方法，其特征在于，将电极设置在相对于模中心线偏离的位置而进行电弧熔融，通过该偏心电弧，将坩埚的直体部、弯曲部以及底部的熔融中的玻璃温度的差控制在300℃以下，将该直体部以及底部的透明层的层厚控制在为弯曲部的透明层的层厚的 70％至120％。
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公开(公告)号：CN1497071A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN200310102907.0
申请日：2003-10-22
Applicant: 日本超精石英株式会社
CPC classification number: C30B15/10 , C30B35/002 , G01N33/386 , Y10S117/90 , Y10T117/1004 , Y10T117/1032 , Y10T428/131 , Y10T428/1314
Abstract: 提供了一种用于容纳在石英玻璃坩埚内的熔硅表面处的振动级的评估工艺，所述工艺包括将从石英玻璃坩埚中切下的石英玻璃试样放在真空炉中，熔融所述玻璃试样上的少量硅，并测量熔硅的振动周期。而且，还提供了一种不会在容纳于石英玻璃坩埚内的熔硅表面处引起振动的石英玻璃坩埚，其中坩埚内壁的石英玻璃的振动周期控制在超过1/6秒。
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公开(公告)号：CN101618941B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200810215444.1
申请日：2008-07-04
Applicant: 日本超精石英株式会社
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/095
Abstract: 本发明提供弯曲部和底部未被过度加热，形状的成形性优异，并且内部气泡少的石英玻璃坩埚的制造方法。一种石英玻璃坩埚的制造方法，其是一边对充填于旋转模具中的石英粉成形体进行抽真空一边进行电弧熔融而制造石英玻璃坩埚的方法，其特征在于，在电弧熔融开始或电弧熔融中将电极相对于模具中心线相对地向侧方移动，在偏心的位置进行电弧熔融。石英玻璃坩埚的制造方法优选整体加热的时间为电弧熔融总时间的60％以下。
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