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公开(公告)号：CN113994441A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080040589.1
申请日：2020-06-24
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: H01F1/153 , H01F3/04 , H01F27/245 , H01F27/25 , H01F30/10 , H01F30/12 , H01F41/02 , B23K26/362 , C22C45/02
Abstract: 本发明提供一种降低磁通密度1.45T条件下的铁损的Fe基非晶合金薄带。本公开的一方式是一种Fe基非晶合金薄带。Fe基非晶合金薄带在至少一个面具有多个连续的线状激光照射痕。线状激光照射痕沿与Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置。线状激光照射痕的表面具有凹凸，在以铸造方向评价凹凸时，Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点之差HL为0.25μm～2.0μm。
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公开(公告)号：CN111801748A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201980016966.5
申请日：2019-03-29
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明的一个方式提供一种Fe基非晶合金薄带，其具有自由凝固面和辊面，在自由凝固面和辊面中的至少一面具有多个由多个激光照射痕构成的激光照射痕列，设置于上述Fe基非晶合金薄带的铸造方向的多个激光照射痕列中的、彼此相邻的激光照射痕列间的与上述铸造方向正交的宽度方向上的中央部的中心线间隔，即线间隔，为10mm～60mm，多个激光照射痕列各自的多个激光照射痕的中心点间隔，即斑点间隔，为0.10mm～0.50mm，激光照射痕的数密度D(＝(1/d1)×(1/d2)、d1：线间隔、d2：斑点间隔)为0.05个/mm2～0.50个/mm2。
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公开(公告)号：CN110520944B
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN201880022019.2
申请日：2018-03-28
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明的一实施方式提供一种Fe基非晶合金带及其制造方法，Fe基非晶合金带是供给到冷却辊的表面的熔液的冷却体，是Fe基纳米晶合金用的Fe基非晶合金带，在作为冷却面的带表面的带宽方向中央部的0.647mm×0.647mm的区域具有深度为1μm以上的凹部，所述深度为1μm以上的凹部的最大面积为3000μm2以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107002212A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580064044.3
申请日：2015-11-20
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: C22C45/02 , B22D11/06 , B22D11/106 , B22D27/04
CPC classification number: C22C45/02 , B22D11/001 , B22D11/0611 , B22D11/0682 , B22D11/0694 , B22D27/04 , C21D8/1211 , C21D2201/03 , C22C33/003 , C22C2200/02 , H01F1/15308 , H01F1/15341 , H01F27/25
Abstract: 本发明在Fe－B－Si－C系非晶态合金带中，通过调整Mn和S的含量，解决使熔液长时间连续从出炉嘴排出的课题，本发明的非晶态合金带，其特征在于，含有Fe、Si、B、C、Mn、S和不可避免的杂质，将Fe、Si、B、C的合计量设为100.0原子％时，具有如下组成：Si为3.0原子％以上10.0原子％以下、B为10.0原子％以上15.0原子％以下、C为0.2原子％以上0.4原子％以下，Mn的含有率为超过0.12质量％且小于0.15质量％，而且S的含有率为0.0036质量％以上且小于0.0045质量％，厚度为10μm以上40μm以下，宽度为100mm以上300mm以下。
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公开(公告)号：CN114574667A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202111284625.1
申请日：2021-11-01
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种非晶合金薄带的制造方法，能够高效进行激光照射、生产率高。一种非晶合金薄带的制造方法，一边使非晶合金薄带行进一边对上述非晶合金薄带照射激光，在上述非晶合金薄带中形成激光照射痕，将上述非晶合金薄带的行进速度设为S1m/sec、上述激光的扫描速度设为S2m/sec时，上述S1为0.1m/sec以上30m/sec以下，上述S2为1m/sec以上800m/sec以下，S2/S1为3.0以上。
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公开(公告)号：CN113892154A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080040217.9
申请日：2020-06-24
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: H01F1/153 , C22C45/02 , C21D10/00 , C22C33/04 , B22D11/06 , H01F27/245 , H01F30/10 , H01F30/12 , H01F41/02
Abstract: 本发明提供一种降低磁通密度1.45T条件下的铁损、变形小、生产率高的Fe基非晶合金薄带。本公开的一方式是一种具有第一面和第二面的Fe基非晶合金薄带。Fe基非晶合金薄带至少在第一面具有多个连续的线状激光照射痕。线状激光照射痕沿与Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置。线状激光照射痕的表面具有凹凸，在以铸造方向评价凹凸时，由Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点的高低差HL以及第一面中的线状激光照射痕的铸造方向上的长度即宽度WA算出的高低差HL×宽度WA为6.0～180μm2。
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公开(公告)号：CN107002212B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201580064044.3
申请日：2015-11-20
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: C22C45/02 , B22D11/06 , B22D11/106 , B22D27/04
Abstract: 本发明在Fe－B－Si－C系非晶态合金带中，通过调整Mn和S的含量，解决使熔液长时间连续从出炉嘴排出的课题，本发明的非晶态合金带，其特征在于，含有Fe、Si、B、C、Mn、S和不可避免的杂质，将Fe、Si、B、C的合计量设为100.0原子％时，具有如下组成：Si为3.0原子％以上10.0原子％以下、B为10.0原子％以上15.0原子％以下、C为0.2原子％以上0.4原子％以下，Mn的含有率为超过0.12质量％且小于0.15质量％，而且S的含有率为0.0036质量％以上且小于0.0045质量％，厚度为10μm以上40μm以下，宽度为100mm以上300mm以下。
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公开(公告)号：CN104245993A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380014114.5
申请日：2013-03-07
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C22C45/02 , B22D11/0611 , C22C33/003 , Y10T428/12
Abstract: 本发明提供一种非晶合金薄带，其含有Fe、Si、B、C和无法避免的杂质，以Fe、Si和B的合计量为100.0原子％时，Si量为8.5原子％～9.5原子％、B量为10.0原子％以上且小于12.0原子％；相对于前述合计量100.0原子％，C量为0.2原子％～0.6原子％；厚度为10μm～40μm、宽度为100mm～300mm。
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