光学薄膜及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1955762B

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200610163933.8

    申请日:2006-10-23

    Abstract: 本发明提供一种包含透光性基底材料以及配置在所述透光性基底材料一个主面上的防反射层的光学薄膜,其中所述防反射层从所述透光性基底材料侧包含硬涂层和配置在所述硬涂层上的低折射率层,所述硬涂层采用包含电离放射线固化型树脂的树脂形成;相对于所述硬涂层的总重量,所述硬涂层包含5重量%以上、30重量%以下的导电性金属氧化物,所述硬涂层是采用包含0.05重量%以上、5.0重量%以下的水的涂布液来形成的。

    光学薄膜及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1955762A

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:CN200610163933.8

    申请日:2006-10-23

    Abstract: 本发明提供一种包含透光性基底材料以及配置在所述透光性基底材料一个主面上的防反射层的光学薄膜,其中所述防反射层从所述透光性基底材料侧包含硬涂层和配置在所述硬涂层上的低折射率层,所述硬涂层采用包含电离放射线固化型树脂的树脂形成;相对于所述硬涂层的总重量,所述硬涂层包含5重量%以上、30重量%以下的导电性金属氧化物,所述硬涂层是采用包含0.05重量%以上、5.0重量%以下的水的涂布液来形成的。

Patent Agency Ranking