公开(公告)号：CN104210047B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201410446851.9

申请日：2012-06-18

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 古池润 ,  山口布士人 ,  前田雅俊 ,  有久慎司

IPC: B29C33/38 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L33/58 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/40 ,  B29C33/424 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/469 ,  H01L33/005 ,  H01L33/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2933/0083 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0

公开(公告)号：CN103299396A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201280003345.1

申请日：2012-06-18

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 古池润 ,  山口布士人 ,  前田雅俊 ,  有久慎司

IPC: H01L21/027 ,  B29C33/38 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  B29C33/56 ,  B29C59/02

CPC classification number: H01L33/58 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/40 ,  B29C33/424 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/469 ,  H01L33/005 ,  H01L33/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2933/0083 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0＜lcc＜1.0h式(2)0≤lcv≤0.05h

公开(公告)号：CN104210046B

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201410446835.X

申请日：2012-06-18

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 古池润 ,  山口布士人 ,  前田雅俊 ,  有久慎司

IPC: B29C33/38 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L33/58 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/40 ,  B29C33/424 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/469 ,  H01L33/005 ,  H01L33/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2933/0083 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0

公开(公告)号：CN104583867B

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201380041043.8

申请日：2013-08-08

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 有久慎司 ,  佐佐木洋朗

IPC: G03F7/031 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/037 ,  H05K3/28

Abstract: 感光性膜层积体具备基材以及设置在基材上的含有感光性树脂组合物的感光性膜，该感光性树脂组合物含有(A)碱溶性树脂、(B)具有不饱和双键的聚合性化合物以及(C)光聚合引发剂，(C)光聚合引发剂为下述通式(1)所表示的结构。(通式(1)中，Ar1为含有芳香族而成的1价有机基团，R1为具有烷基或芳基的有机基团，R2为碳原子数为3～50的1价烃基，是支链烷基、直链烷基、具有脂环结构的烷基或具有芳香族结构的烷基的任一种。)本发明可提供感光性膜以及使用其的柔性印刷布线板，该感光性膜能够进行碱显影、光灵敏度优异，并且即使在薄膜化的情况下也具有优异的布线被覆性，同时曝光部与未曝光部的可见性优异。