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公开(公告)号：JPWO2016117478A1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：JP2016570614
申请日：2016-01-15
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 出 鹿島 , 出 鹿島 , 祐輔 藤原 , 祐輔 藤原 , 玉井 喜芳 , 喜芳 玉井 , 鈴木 祐一 , 祐一 鈴木 , 洋一 世良 , 洋一 世良 , 拓 山田 , 拓 山田 , 小林 大介 , 大介 小林
Abstract: 本発明は、ボトム面の強度が低下するのを効果的に抑制したフロートガラスを提供することを目的とする。本発明は、表面に研磨傷を有さず、フロート成形時に溶融金属と接するボトム面のサミット密度(Sds)が4700以下である、フロートガラスに関する。
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公开(公告)号：JPWO2015194324A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016529197
申请日：2015-05-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 純一 ▲角▼田 , 純一 ▲角▼田 , 正迪 井手 , 正迪 井手 , 研一 江畑 , 研一 江畑 , 寧司 深澤 , 寧司 深澤 , 小林 大介 , 大介 小林 , 鈴木 祐一 , 祐一 鈴木
Abstract: 本発明は、表面にマイクロクラックが存在するガラス基板に対して引張応力がかかった際の割れが発生しにくい複合体を提供することを目的とする。本発明は、マイクロクラック内部の少なくとも一部に樹脂層の樹脂が入り込み、前記マイクロクラックの深さdに対する、ガラス基板表面からの樹脂の入り込み深さdfの比と、前記樹脂層の破断伸度TE(%)と、前記樹脂層の降伏応力σS(MPa)との積が400MPa・%以上であり、かつ前記樹脂層の引張弾性率が1.0GPa以上である、複合体に関する。
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公开(公告)号：JPWO2014080917A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2014548586
申请日：2013-11-19
Applicant: 株式会社パーカーコーポレーション , 旭硝子株式会社
Inventor： 榎本 久男 , 久男 榎本 , 幸治 佐原 , 幸治 佐原 , 智章 石川 , 智章 石川 , 厚 城山 , 厚 城山 , 佳孝 前柳 , 佳孝 前柳 , 敦義 竹中 , 敦義 竹中 , 小林 大介 , 大介 小林 , 高橋 秀幸 , 秀幸 高橋 , 陽司 中島 , 陽司 中島
IPC: C03C23/00 , C03C19/00 , C11D1/44 , C11D3/20 , C11D3/34 , C11D3/36 , G02F1/1333 , G02F1/1335
CPC classification number: C11D11/0064 , C03C23/0075 , C11D3/044 , C11D3/2082 , C11D3/3418 , C11D3/362 , C11D11/0035 , C11D11/0041
Abstract: 研磨後のガラス基板の洗浄方法において、洗浄されたガラス基板表面に形成される樹脂BM膜の密着性低下を抑制して、樹脂BM膜の剥れを防止する。酸化セリウム粒子を含有する研磨剤により研磨されたガラス基板を、有機酸を含む酸性の水系洗浄液により洗浄し、次いで塩基を含むアルカリ性の水系洗浄液により洗浄することを特徴とするガラス基板の洗浄方法である。
Abstract translation: 在研磨后的玻璃基板的清洗方法中，形成清洁的玻璃基板表面上的树脂BM膜的粘接力降低得到抑制，以防止树脂BM层的剥离。 已含有氧化铈颗粒抛光由抛光剂，将含在玻璃基板清洗方法有机酸和碱，然后，其特征在于用含有碱性水溶液的清洗溶液清洗的酸性洗涤水溶液洗涤该玻璃基板 一。
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公开(公告)号：JPWO2013146442A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：JP2014507742
申请日：2013-03-18
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 聡史 宮坂 , 聡史 宮坂 , 英子 中田 , 英子 中田 , 泰夫 林 , 泰夫 林 , 真 府川 , 真 府川 , 敏史 仁平 , 敏史 仁平 , 正信 白井 , 正信 白井 , 直樹 岡畑 , 直樹 岡畑 , 浩司 中川 , 浩司 中川 , 山中 一彦 , 一彦 山中 , 渡邉 邦夫 , 邦夫 渡邉 , 史朗 谷井 , 史朗 谷井 , 信彰 井川 , 信彰 井川 , 小林 大介 , 大介 小林 , 純一 宮下 , 純一 宮下 , 亮祐 加藤 , 亮祐 加藤
CPC classification number: C03C3/112 , C03C4/18 , C03C15/00 , C03C21/002 , C03C23/0055 , C03C23/008 , C03C2204/00 , Y10T428/24355 , Y10T428/315
Abstract: 本発明は、化学強化後の反りを効果的に抑制することができるとともに、化学強化前の研磨処理等を省略または簡略化することができるガラス板を提供することを目的とする。本発明は、厚み方向に対向する一方の面のフッ素濃度が他方の面のフッ素濃度より大きいガラス板であって、式(1)0.07≦ΔF/ΔH2Oを満たすガラス板に関する。ここで、フッ素濃度は深さ1〜24μmのSIMSによる平均フッ素濃度(mol%)である。式(1)中、ΔFは、フッ素濃度が大きい面における深さ1〜24μmのSIMSによる平均フッ素濃度(mol%)からフッ素濃度が小さい面における深さ1〜24μmのSIMSによる平均フッ素濃度(mol%)を減じた値である。式(1)中、ΔH2Oは、フッ素濃度が小さい面における深さ1〜24μmのSIMSによる平均H2O濃度(mol%)からフッ素濃度が大きい面における深さ1〜24μmのSIMSによる平均H2O濃度(mol%)を減じた値の絶対値である。
Abstract translation: 本发明中，有可能在化学强化后，有效地抑制翘曲的，其目的在于提供一种玻璃板可以被省略或简化抛光处理等化学前强化。 本发明中，在厚度方向上的玻璃板比另一个表面的氟浓度较大的面向一个表面的氟浓度，涉及满足式（1）0.07≦ΔF/ΔH2O的玻璃板。 这里，氟浓度是通过SIMS深度1〜24μm（摩尔％）的平均氟浓度。 其中（1）中，ΔF是由SIMS深度从平均氟浓度的平均值为1〜24μm的氟浓度大于表面（摩尔％）通过SIMS深度1〜24μm的表面氟浓度为更少的氟浓度（mol ％）是通过减去所获得的值。 其中（1），ΔH2O通过SIMS深度1从平均H2O浓度的平均〜24μm中的氟浓度是更小的表面（摩尔％）通过SIMS深度1〜24μm的氟浓度大于表面H2O浓度（mol ％）是通过减去所获得的值的绝对值。
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公开(公告)号：JPWO2013094479A1
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013550236
申请日：2012-12-11
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C17/245 , C03C21/00 , G02F1/1333
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/25 , C03C21/00 , C03C21/002 , C03C2217/213 , C03C2218/1525 , Y10T428/315
Abstract: 本発明は、短時間で製膜が可能であり、製膜後に化学強化処理することが可能な膜をガラス基板の表面に形成させた化学強化用ガラス基板を提供することを目的とする。本発明は、フロート法により成形されたガラス基板であって、H原子濃度が1.0?1015〜1.0?1019atom/mm3の範囲にある無機物からなる膜が少なくとも1面に形成されている化学強化用ガラス基板に関する。
Abstract translation: 本发明能够在短时间内成膜，并提供形成于玻璃基板的表面上的化学强化玻璃基板具有能够膜对膜之后化学强化处理。 本发明提供一种利用浮法形成的玻璃基板，在1.0？1015〜1.0？1019atom /立方毫米的范围内的无机材料的化学强化膜H原子的浓度的玻璃上的至少一个侧面上形成 它涉及到一个衬底上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2013005588A1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2013522822
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 山中 一彦 , 一彦 山中 , 小池 章夫 , 章夫 小池 , 祐輔 藤原 , 祐輔 藤原 , 小林 大介 , 大介 小林 , 陽介 網野 , 陽介 網野 , 良司 秋山 , 良司 秋山 , 正信 白井 , 正信 白井
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本発明は、化学強化後の反りを効果的に抑制することができるとともに、化学強化前の研磨処理等を省略または簡略化することができる化学強化用フロートガラスを提供する。本発明は、成形時に溶融金属と接するボトム面と、該ボトム面に対向するトップ面とを有する化学強化用フロートガラスであって、深さ5〜10μmにおける規格化水素濃度のトップ面とボトム面との差の絶対値が0.35以下である化学強化用フロートガラス、深さ5〜10μmにおける平均H/Si強度のトップ面に対するボトム面の比が1.65以下である化学強化用フロートガラス、及び、深さ5〜30μmにおける表層&bgr;−OHのトップ面に対するボトム面の比が1.27以下である化学強化用フロートガラスに関する。
Abstract translation: 本发明提供能够有效地抑制翘曲的化学强化后，化学增强的浮法玻璃可以被省略或简化抛光处理等化学前强化。 本发明包括在成形时与熔融金属接触的底表面，在所述深度处具有与所述底表面的顶表面，所述顶表面和所述归一化的氢浓度的底表面的化学强化浮法玻璃5〜10μm的 门卢差卢绝对值蛾0.35鱿鱼那里化学强化用浮法玻璃，深度为5〜10μm的Niokeru平均H /硅强度卢顶表面Nitaisuru底表面安装比蛾1.65鱿鱼那里化学强化用浮法玻璃，Oyobi，深度 为5至30微米的表面层＆BGR;在所述底表面的化学强化浮法玻璃比为1.27或以下，相对于所述-OH的顶表面。
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公开(公告)号：JPWO2016117474A1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：JP2016570611
申请日：2016-01-15
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 出 鹿島 , 出 鹿島 , 祐輔 藤原 , 祐輔 藤原 , 玉井 喜芳 , 喜芳 玉井 , 鈴木 祐一 , 祐一 鈴木 , 洋一 世良 , 洋一 世良 , 小林 大介 , 大介 小林
CPC classification number: C03C21/002 , C03C3/091 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C03C2204/08 , G02F1/1333
Abstract: 本発明は、化学強化を行なってもガラスの強度が低下するのを効果的に抑制でき、かつ、透過率が高い(すなわち低反射性の)化学強化ガラスを提供することを目的とする。本発明は表層にイオン交換法により形成された圧縮応力層を有する化学強化ガラスであって、ナトリウム及びホウ素を含み、デルタ透過率が+0.1%以上であり、ガラスの最表面から深さXの領域における水素濃度Yを線形近似した直線が、X=0.1〜0.4(μm)において特定の関係式を満たす、化学強化ガラスに関する。
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公开(公告)号：JPWO2015178339A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016521089
申请日：2015-05-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/00 , G02F1/1333 , G02F1/1335
Abstract: アルミニウムを含むケイ酸ガラスからなるガラス基板であり、X線光電子分光法により測定された、前記ガラス基板の内部におけるアルミニウムの原子濃度とケイ素の原子濃度との比の値から、前記ガラス基板の表面におけるアルミニウムの原子濃度とケイ素の原子濃度との比の値を引いた値が、0.25以下であるガラス基板である。
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公开(公告)号：JPWO2015008760A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015527306
申请日：2014-07-15
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C21/002 , C03C3/087 , C03C23/0075
Abstract: 本発明は、ガラス表面に、イオン交換した圧縮応力層を有する化学強化ガラスであって、前記圧縮応力層の表面を低密度化した低密度層を有し、前記低密度層の厚みが5nm以上200nm以下であり、かつ前記低密度層の密度(D1)とガラス中心部に存在し前記圧縮応力層に挟まれる中間層の密度(D3)との比(D1/D3)が0.5以上0.93未満である、化学強化ガラスに関する。
Abstract translation: 本发明中，在玻璃表面上，具有由离子交换的压缩应力层，具有低密度层和压缩应力层的表面的低密度的化学强化玻璃，低密度层的厚度大于5nm的更 并且在200nm以下，并且所述低密度层密度（D1）和存在于玻璃中心夹在压缩应力层（D1 / D3）之间的中间层（D3）的密度之间的比率小于0.5或大于0.5 0.93 还有，在化学钢化玻璃。
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公开(公告)号：JPWO2013146441A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：JP2014507741
申请日：2013-03-18
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 直樹 岡畑 , 直樹 岡畑 , 浩司 中川 , 浩司 中川 , 山中 一彦 , 一彦 山中 , 渡邉 邦夫 , 邦夫 渡邉 , 史朗 谷井 , 史朗 谷井 , 信彰 井川 , 信彰 井川 , 小林 大介 , 大介 小林 , 純一 宮下 , 純一 宮下 , 亮祐 加藤 , 亮祐 加藤 , 敏史 仁平 , 敏史 仁平 , 洋一 世良 , 洋一 世良 , 泰夫 林 , 泰夫 林 , 真 府川 , 真 府川
CPC classification number: C03C21/002 , C03C15/00 , C03C23/008 , Y10T428/31 , Y10T428/315
Abstract: 本発明は、化学強化後の反りを効果的に抑制することができるとともに、化学強化前の研磨処理等を省略または簡略化することができるガラス板を提供することを目的とする。本発明は、横軸を深さとし、且つ縦軸をF/Si強度比とする二次イオン質量分析装置(SIMS)による深さ方向プロファイル上で、一方の面の深さ0〜20μmにおける深さ方向プロファイルの平均値がもう一方の面の深さ0〜20μmにおける深さ方向プロファイルの平均値より大きく、両者の比が1.4より大きいガラス板に関する。
Abstract translation: 本发明中，有可能在化学强化后，有效地抑制翘曲的，其目的在于提供一种玻璃板可以被省略或简化抛光处理等化学前强化。 本发明中，深戒横轴，并且在深度分布纵轴上通过根据F / Si的强度比（SIMS）二次离子质谱仪，在深度0〜20μm的深度上的一个表面上 平均方向轮廓大于所述深度分布的平均值的，在深度0〜20μM的另一侧，其比率为约1.4比玻璃板更大。
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