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公开(公告)号：WO2007020859A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/JP2006/315770
申请日：2006-08-09
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/30 , B24B37/22 , B24D11/001
Abstract: 本発明は、ガラス基板を長時間にわたり円滑に研磨することができる基板の研磨装置を提供する。 本発明は、吸着シートと比較して引っ張り方向の剛性が高い中間シートを、膜体と吸着シートとの間に介在させて接着する。研磨中に発生する研磨抵抗によって膜体は引っ張り方向に伸縮し、膜体の伸縮動作により中間シートと膜体との間に剥がれが生じる場合があるが、膜体と吸着シートとの間に中間シートが介在されているため、ガラス基板Ｇの吸着により伸縮が制約された吸着シートと、吸着シートよりも引っ張り方向の剛性が高い中間シートとの間では、中間シートが引っ張り方向に伸縮しないため相対的なずれが発生しなくなり、吸着シートが中間シートから剥がれて捲り上がることを防止できる。
Abstract translation: 提供一种能够长时间平滑地研磨玻璃基板的基板研磨装置。 与膜片相比，在拉伸方向上具有高刚性的中间片材被夹在膜体和吸力片材之间并粘结。 存在由于抛光时产生的抛光阻力而导致膜体在拉伸方向膨胀和收缩的情况，并且由于膜体的膨胀和收缩，中间片和膜体之间产生剥离。 由于中间片布置在膜体和吸力片之间，所以中间片不会由于玻璃基板（G）的吸入而导致的膨胀和收缩受到限制的吸力片之间的拉伸方向的拉伸方向不接触， 片材的拉伸方向上的刚性比吸着片材的刚性高。 因此，不产生相对偏移，并且防止吸力片从中间片剥离和卷起。
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公开(公告)号：JP5790872B2
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：JP2014507742
申请日：2013-03-18
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 宮坂 聡史 , 中田 英子 , 林 泰夫 , 府川 真 , 仁平 敏史 , 白井 正信 , 岡畑 直樹 , 中川 浩司 , 山中 一彦 , 渡邉 邦夫 , 谷井 史朗 , 井川 信彰 , 小林 大介 , 宮下 純一 , 加藤 亮祐
CPC classification number: C03C3/112 , C03C15/00 , C03C21/002 , C03C23/0055 , C03C4/18 , C03C2204/00 , Y10T428/24355 , Y10T428/315
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公开(公告)号：JP2016056092A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2015229846
申请日：2015-11-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 岡畑 直樹 , 中川 浩司 , 山中 一彦 , 渡邉 邦夫 , 谷井 史朗 , 井川 信彰 , 小林 大介 , 宮下 純一 , 加藤 亮祐 , 仁平 敏史 , 世良 洋一 , 林 泰夫 , 府川 真
CPC classification number: C03C21/002 , C03C15/00 , Y10T428/31 , Y10T428/315
Abstract: 【課題】本発明は、化学強化後の反りを効果的に抑制することができるとともに、化学強化前の研磨処理等を省略または簡略化することができるガラス板を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、一方の面における表面Na 2 O量が、もう一方の面のNa 2 O量濃度よりも0.2質量%〜1.2質量%低いガラス板に関する。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够在化学强化后有效地抑制翘曲的玻璃板，并且能够在化学强化之前省略或简化抛光处理等。解决方案本发明涉及一种具有一面和 另一面，一面的NaO量低于另一面的NaO量为0.2质量％-1.2质量％。选择图：无
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公开(公告)号：JP5967088B2
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：JP2013523990
申请日：2012-07-12
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/2456 , C03B25/08 , C03C17/002 , C23C16/45572 , C23C16/45595 , C23C16/46
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