保护玻璃和玻璃层叠体
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107031145A

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201710063610.X

    申请日:2017-02-03

    CPC classification number: B32B17/00 B32B17/06 B32B33/00

    Abstract: 本发明提供一种减小翘曲且耐擦伤性优良、并且低反射性、光学特性也优良的保护玻璃和玻璃层叠体。本发明涉及一种保护玻璃,其包含玻璃板和层叠在所述玻璃板的至少一个表面上的无机膜,其中,所述玻璃板的厚度为1mm以下;所述无机膜为下述层叠膜:所述层叠膜通过将包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替层叠6层以上而得到,所述高折射率材料的波长632nm下的折射率为1.80以上,所述低折射率材料的所述折射率小于1.80,所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的单层膜的厚度为5nm~250nm,且所述层叠6层以上而得到的合计厚度为850nm~6000nm;并且所述玻璃板单独的翘曲量与层叠有所述无机膜的保护玻璃的翘曲量的翘曲变化量为30%以下。

    薄膜形成方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101528978B

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN200780022302.7

    申请日:2007-06-14

    Abstract: 在接近大气压的压力气氛的条件下,使用等离子体在基板上形成薄膜时,即使将电极和基板之间的间隙设定得比以往宽,也可以抑制反应气体反应而产生的微粒,且稳定地形成均质的薄膜。通过向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极(12)供给电力,从而在所述旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙中生成等离子体,使用生成的等离子体,使所供给的反应气体(G)活化而在基板(S)上形成薄膜时,使旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙宽度为2mm~7mm,向旋转电极(12)供给频率为100kHz~1GHz的高频电力。

    薄膜形成方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101528978A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780022302.7

    申请日:2007-06-14

    Abstract: 在接近大气压的压力气氛的条件下,使用等离子体在基板上形成薄膜时,即使将电极和基板之间的间隙设定得比以往宽,也可以抑制反应气体反应而产生的微粒,且稳定地形成均质的薄膜。通过向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极(12)供给电力,从而在所述旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙中生成等离子体,使用生成的等离子体,使所供给的反应气体(G)活化而在基板(S)上形成薄膜时,使旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙宽度为2mm~7mm,向旋转电极(12)供给频率为100kHz~1GHz的高频电力。

    保护玻璃和玻璃层叠体
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206605867U

    公开(公告)日:2017-11-03

    申请号:CN201720106587.3

    申请日:2017-02-03

    Abstract: 本实用新型提供一种减小翘曲且耐擦伤性优良、并且低反射性、光学特性也优良的保护玻璃和玻璃层叠体。本实用新型涉及一种保护玻璃,其包含玻璃板和层叠在所述玻璃板的至少一个表面上的无机膜,其中,所述玻璃板的厚度为1mm以下;所述无机膜为下述层叠膜:所述层叠膜通过将包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替层叠6层以上而得到,所述高折射率材料的波长632nm下的折射率为1.80以上,所述低折射率材料的所述折射率小于1.80,所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的单层膜的厚度为5nm~250nm,且所述层叠6层以上而得到的合计厚度为850nm~6000nm;并且所述玻璃板单独的翘曲量与层叠有所述无机膜的保护玻璃的翘曲量的翘曲变化量为30%以下。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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