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公开(公告)号：CN101223119A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680025777.7
申请日：2006-07-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C07C17/395 , C07C17/21
CPC classification number: C07C17/23 , C07C17/21 , C07C17/38 , C07C17/383 , C07C17/395 , C07C19/08
Abstract: 本发明回收五氟乙烷的方法包括：使含有五氟乙烷和不可凝性气体的混合气体与氯化溶剂接触，并允许该氯化溶剂吸收混合气体中含有的五氟乙烷。本发明制备五氟乙烷的方法使用该回收方法。
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公开(公告)号：CN104743513A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410806200.6
申请日：2014-12-22
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C01B11/06
Abstract: 提供以高收率制造低盐次氯酸钠水溶液的方法。本发明的低盐次氯酸钠水溶液的制造方法，其特征在于，包括：工序(1)，该工序将30～60质量％的氢氧化钠水溶液供给到反应槽中；工序(2)，该工序向供给到该反应槽中的氢氧化钠水溶液导入用惰性气体稀释了的氯气，在20℃～50℃的反应温度进行氯化反应；和工序(3)，该工序通过将在所述工序(2)中析出的副产氯化钠从反应液中分离并除去而得到次氯酸钠水溶液。
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公开(公告)号：CN1289447C
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN03800236.1
申请日：2003-03-07
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/21 , C07C17/395 , C07C17/10 , C09K5/04
CPC classification number: C09K5/045 , B01J23/26 , B01J23/42 , C07C17/10 , C07C17/21 , C07C17/395 , C07C19/08 , C09K2205/24
Abstract: 本发明涉及一种生产高纯度五氟乙烷的方法，包括(1)将四氯乙烯氟化的步骤，获得含有杂质的粗五氟乙烷，和(2)使含有杂质的粗五氟乙烷与氧气和/或含氧化合物在催化剂存在下接触的步骤。
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公开(公告)号：CN1276903C
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN01801719.3
申请日：2001-06-20
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C19/08 , C07C17/20 , C07C17/10 , C07C17/395
CPC classification number: C07C19/08 , C07C17/10 , C07C17/206 , C07C17/21 , C07C17/383 , C07C17/395
Abstract: 本发明旨在提供用包含分子中有氯原子的化合物的CF3CHF2高收率制备CF3CF3的方法，以及CF3CF3的用途。本发明方法中，在氟化催化剂存在下，含有CF3CHF2和分子中有氯原子的化合物的气体混合物与氟化氢反应，从而将作为主要杂质的CClF2CF3转化为CF3CF3，并且在稀释气体存在下，使含CF3CF3的CF3CHF2与氟气体在气相进行反应。
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公开(公告)号：CN1683923A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510070123.3
申请日：2001-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 在一种制造卤素化合物或全氟化碳化合物的设备中，为了将卤素气体和/或氟代烃气体浓度控制在设定在范围内，提供卤素气体和/或氟代烃气体的管理上需要的迅速、容易且精度高的测定方法，加之结构小型化、另外零件交换迅速、容易的测定装置和使用它的制造卤素化合物或全氟化碳化合物的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1330267A
公开(公告)日：2002-01-09
申请号：CN01121898.3
申请日：2001-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 在一种制造卤素化合物或全氟化碳化合物的设备中,为了将卤素气体和/或氟代烃气体浓度控制在设定在范围内,提供卤素气体和/或氟代烃气体的管理上需要的迅速、容易且精度高的测定方法,加之结构小型化、另外零件交换迅速、容易的测定装置和使用它的制造卤素化合物或全氟化碳化合物的方法。
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公开(公告)号：CN101223119B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200680025777.7
申请日：2006-07-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C07C17/395 , C07C17/21
CPC classification number: C07C17/23 , C07C17/21 , C07C17/38 , C07C17/383 , C07C17/395 , C07C19/08
Abstract: 本发明回收五氟乙烷的方法包括：使含有五氟乙烷和不可凝性气体的混合气体与氯化溶剂接触，并允许该氯化溶剂吸收混合气体中含有的五氟乙烷。本发明制备五氟乙烷的方法使用该回收方法。
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公开(公告)号：CN1683923B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200510070123.3
申请日：2001-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 在一种制造卤素化合物或全氟化碳化合物的设备中，为了将卤素气体和/或氟代烃气体浓度控制在设定在范围内，提供卤素气体和/或氟代烃气体的管理上需要的迅速、容易且精度高的测定方法，加之结构小型化、另外零件交换迅速、容易的测定装置和使用它的制造卤素化合物或全氟化碳化合物的方法。
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公开(公告)号：CN1568297A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN03800236.1
申请日：2003-03-07
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/21 , C07C17/395 , C07C17/10 , C09K5/04
CPC classification number: C09K5/045 , B01J23/26 , B01J23/42 , C07C17/10 , C07C17/21 , C07C17/395 , C07C19/08 , C09K2205/24
Abstract: 本发明涉及一种生产高纯度五氟乙烷的方法，包括(1)将四氯乙烯氟化的步骤，获得含有杂质的粗五氟乙烷，和(2)使含有杂质的粗五氟乙烷与氧气和/或含氧化合物在催化剂存在下接触的步骤。
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公开(公告)号：CN1561319A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN01801719.3
申请日：2001-06-20
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C19/08 , C07C17/20 , C07C17/10 , C07C17/395
CPC classification number: C07C19/08 , C07C17/10 , C07C17/206 , C07C17/21 , C07C17/383 , C07C17/395
Abstract: 本发明旨在提供用包含分子中有氯原子的化合物的CF3CHF2高收率制备CF3CF3的方法，以及CF3CF3的用途。本发明方法中，在氟化催化剂存在下，含有CF3CHF2和分子中有氯原子的化合物的气体混合物与氟化氢反应，从而将作为主要杂质的CClF2CF3转化为CF3CF3，并且在稀释气体存在下，使含CF3CF3的CF3CHF2与氟气体在气相进行反应。
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