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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100458438C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200580033032.0
申请日：2005-09-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G01N30/14 , G01N30/88 , G01N2030/025 , G01N2030/8859
Abstract: 本发明提供可简便且高精度地进行含氟气的混合气体中所含的微量成分的分析的方法以及微量成分的分析装置。本发明的微量成分的分析方法，其特征在于，使(i)由氟气和稀释气体组成、并含有微量成分的混合气体、和(ii)含氢物质进行反应，将该氟气转化成氟化氢，将该氟化氢进行固定化除去之后，利用气相色谱仪对该微量成分进行分析。本发明的微量成分的分析装置，具有使(i)由氟气和稀释气体组成、并含有微量成分的混合气体、和(ii)含氢物质进行反应的反应管、填充有碱金属的氟化物的管、在可切换载气的流路的六通切换阀上连接有能分取一定量的样品的试样计量管的气体采样器、以及气相色谱仪，进行配管以使得上述混合气体和上述含氢物质按该顺序流过。
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公开(公告)号：CN1826305B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200480021358.7
申请日：2004-07-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C07C19/08 , C07C17/383
CPC classification number: C07C17/38
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够有效生产可以用作半导体的蚀刻气体的高纯度HFC-41的方法。本发明提纯氟代甲烷的方法包括蒸馏含有氟代甲烷和氯化氢的混合物以从蒸馏塔顶部蒸出氟代甲烷并从蒸馏塔底部得到氟代甲烷和氯化氢的共沸混合物。
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公开(公告)号：CN101248006A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200680031146.6
申请日：2006-08-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C01B21/083
Abstract: 本发明的三氟化氮的制造方法，其特征在于，将氟气和氨气供给到管状反应器中，使其在稀释气体的存在下、气相中、无催化剂条件下进行反应，生成主要含有三氟化氮的气体生成物和主要含有氟化铵和/或酸式氟化铵的固态生成物，利用安装在上述管状反应器上的用于除去上述固态生成物的装置，来除去附着在上述管状反应器的内壁的上述固态生成物。
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公开(公告)号：CN101031794A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200580033032.0
申请日：2005-09-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G01N30/14 , G01N30/88 , G01N2030/025 , G01N2030/8859
Abstract: 本发明提供可简便且高精度地进行含氟气的混合气体中所含的微量成分的分析的方法以及微量成分的分析装置。本发明的微量成分的分析方法，其特征在于，使(i)由氟气和稀释气体组成、并含有微量成分的混合气体、和(ii)含氢物质进行反应，将该氟气转化成氟化氢，将该氟化氢进行固定化除去之后，利用气相色谱仪对该微量成分进行分析。本发明的微量成分的分析装置，具有使(i)由氟气和稀释气体组成、并含有微量成分的混合气体、和(ii)含氢物质进行反应的反应管、填充有碱金属的氟化物的管、在可切换载气的流路的六通切换阀上连接有能分取一定量的样品的试样计量管的气体采样器、以及气相色谱仪，进行配管以使得上述混合气体和上述含氢物质按该顺序流过。
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公开(公告)号：CN1826305A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200480021358.7
申请日：2004-07-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C07C19/08 , C07C17/383
CPC classification number: C07C17/38
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够有效生产可以用作半导体的蚀刻气体的高纯度HFC－41的方法。本发明提纯氟代甲烷的方法包括蒸馏含有氟代甲烷和氯化氢的混合物以从蒸馏塔顶部蒸出氟代甲烷并从蒸馏塔底部得到氟代甲烷和氯化氢的共沸混合物。
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