公开(公告)号：CN1726433A

公开(公告)日：2006-01-25

申请号：CN200380106100.2

申请日：2003-11-12

Applicant: 普林斯顿大学

Inventor： S·周 ,  陈雷

IPC: G03F7/00 ,  B29C33/38

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017

Abstract: 本发明涉及一种新的纳米压印抗蚀剂和在纳米压印平版印刷术中使用的薄膜组合物。采用纳米压印法，本发明的组合物允许经济高产量地生产出小于200纳米、甚至小于50nm特征的图案。

公开(公告)号：CN1726433B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200380106100.2

申请日：2003-11-12

Applicant: 普林斯顿大学

Inventor： S·周 ,  陈雷

IPC: G03F7/00 ,  B29C33/38

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017

Abstract: 本发明涉及一种新的纳米压印抗蚀剂和在纳米压印平版印刷术中使用的薄膜组合物。采用纳米压印法，本发明的组合物允许经济高产量地生产出小于200纳米、甚至小于50nm特征的图案。