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公开(公告)号:CN102575809B
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201080043979.0
申请日:2010-07-16
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
CPC classification number: F17C9/02 , F17C5/06 , F17C2201/0109 , F17C2201/035 , F17C2201/054 , F17C2203/0312 , F17C2203/0316 , F17C2203/0391 , F17C2203/0626 , F17C2205/013 , F17C2205/018 , F17C2205/0323 , F17C2205/0332 , F17C2205/0338 , F17C2205/0341 , F17C2221/017 , F17C2221/05 , F17C2223/0115 , F17C2223/0161 , F17C2223/033 , F17C2223/046 , F17C2225/0123 , F17C2225/035 , F17C2225/043 , F17C2227/0302 , F17C2227/0393 , F17C2250/032 , F17C2250/034 , F17C2250/036 , F17C2250/0408 , F17C2250/043 , F17C2250/0478 , F17C2250/0491 , F17C2250/072 , F17C2265/06 , F17C2270/0168 , F17C2270/05 , F17C2270/0518
Abstract: 本发明涉及用于可靠的超高纯度(UHP)氦气供给和保持专用现场库存的方法及系统。具体而言,本发明使用了多个ISO容器,由此备用ISO容器中汽化的UHP氦被用于在联机ISO容器中累积压力。ISO容器的隔热可用于减少进入备用ISO容器中的热泄漏,从而降低了氦汽化速率和需要收回来保持器皿的最大可允许工作压力(MAWP)的气体量。通过使用节约器阀抽取UHP氦气但使液体保持在ISO容器中,甚至更低的供给速率也是可能的。这使得有可能高效地管理供给速率(从低流动至较高流动要求),并有可能优化UHP氦从储存器皿的抽取速率。另一优点在于,发送给客户的UHP氦气具有较高的纯度,因为其直接来自于液体源。UHP氦气可用于半导体制造,例如作为运载气体,以便在薄膜沉积在晶片上的期间将前体引入沉积室。
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公开(公告)号:CN102575809A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201080043979.0
申请日:2010-07-16
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
CPC classification number: F17C9/02 , F17C5/06 , F17C2201/0109 , F17C2201/035 , F17C2201/054 , F17C2203/0312 , F17C2203/0316 , F17C2203/0391 , F17C2203/0626 , F17C2205/013 , F17C2205/018 , F17C2205/0323 , F17C2205/0332 , F17C2205/0338 , F17C2205/0341 , F17C2221/017 , F17C2221/05 , F17C2223/0115 , F17C2223/0161 , F17C2223/033 , F17C2223/046 , F17C2225/0123 , F17C2225/035 , F17C2225/043 , F17C2227/0302 , F17C2227/0393 , F17C2250/032 , F17C2250/034 , F17C2250/036 , F17C2250/0408 , F17C2250/043 , F17C2250/0478 , F17C2250/0491 , F17C2250/072 , F17C2265/06 , F17C2270/0168 , F17C2270/05 , F17C2270/0518
Abstract: 本发明涉及用于可靠的超高纯度(UHP)氦气供给和保持专用现场库存的方法及系统。具体而言,本发明使用了多个ISO容器,由此备用ISO容器中汽化的UHP氦被用于在联机ISO容器中累积压力。ISO容器的隔热可用于减少进入备用ISO容器中的热泄漏,从而降低了氦汽化速率和需要收回来保持器皿的最大可允许工作压力(MAWP)的气体量。通过使用节约器阀抽取UHP氦气但使液体保持在ISO容器中,甚至更低的供给速率也是可能的。这使得有可能高效地管理供给速率(从低流动至较高流动要求),并有可能优化UHP氦从储存器皿的抽取速率。另一优点在于,发送给客户的UHP氦气具有较高的纯度,因为其直接来自于液体源。UHP氦气可用于半导体制造,例如作为运载气体,以便在薄膜沉积在晶片上的期间将前体引入沉积室。
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