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公开(公告)号：CN104412420B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201380032176.9
申请日：2013-02-15
Applicant: 月岛机械株式会社
IPC: H01M4/1391 , B01D9/02 , B01J19/00 , C01G53/00
CPC classification number: H01M4/505 , B01D9/0009 , B01D9/0036 , B01D9/004 , B01J8/14 , B01J19/18 , B01J19/1806 , B01J19/2405 , B01J19/245 , B01J19/2465 , B01J2208/003 , B01J2219/0011 , B01J2219/00114 , B01J2219/00164 , B01J2219/24 , C01G53/006 , C01G53/04 , C01G53/06 , C01P2004/03 , H01M4/525 , H01M4/5825 , H01M10/0525 , H01M2004/028
Abstract: 使反应处理器(10)内的液体流动为旋流，在所述反应处理器(10)内的反应区域，在反应处理器(10)的相对于内表面处于中心侧的位置注入含有所要追加的无机物质的追加液A、B，使反应处理进行。
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公开(公告)号：CN104582828A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043123.7
申请日：2013-02-25
Applicant: 月岛机械株式会社
CPC classification number: B01J19/24 , B01F3/0853 , B01F3/0865 , B01F5/0065 , B01F5/0071 , B01F5/10 , B01F7/18 , B01F13/1016 , B01F13/1022 , B01F15/065 , B01J19/1862 , B01J19/2405 , B01J19/242 , B01J19/2435 , B01J2219/2401 , C01G53/006 , C01P2004/03
Abstract: 获得连续处理装置，其是小型的处理装置，发挥充分的处理量，而且表现出均匀的接触处理性。处理器(10)内的液流为回转流，在所述处理器(10)内的接触处理场，在比处理器(10)的内表面靠中心侧的位置注入注入液(A、B)，进行接触处理。
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公开(公告)号：CN104582828B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201380043123.7
申请日：2013-02-25
Applicant: 月岛机械株式会社
CPC classification number: B01J19/24 , B01F3/0853 , B01F3/0865 , B01F5/0065 , B01F5/0071 , B01F5/10 , B01F7/18 , B01F13/1016 , B01F13/1022 , B01F15/065 , B01J19/1862 , B01J19/2405 , B01J19/242 , B01J19/2435 , B01J2219/2401 , C01G53/006 , C01P2004/03
Abstract: 获得连续处理装置，其是小型的处理装置，发挥充分的处理量，而且表现出均匀的接触处理性。处理器(10)内的液流为回转流，在所述处理器(10)内的接触处理场，在比处理器(10)的内表面靠中心侧的位置注入注入液(A、B)，进行接触处理。
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公开(公告)号：CN104412420A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201380032176.9
申请日：2013-02-15
Applicant: 月岛机械株式会社
IPC: H01M4/1391 , B01D9/02 , B01J19/00 , C01G53/00
CPC classification number: H01M4/505 , B01D9/0009 , B01D9/0036 , B01D9/004 , B01J8/14 , B01J19/18 , B01J19/1806 , B01J19/2405 , B01J19/245 , B01J19/2465 , B01J2208/003 , B01J2219/0011 , B01J2219/00114 , B01J2219/00164 , B01J2219/24 , C01G53/006 , C01G53/04 , C01G53/06 , C01P2004/03 , H01M4/525 , H01M4/5825 , H01M10/0525 , H01M2004/028
Abstract: 使反应处理器(10)内的液体流动为旋流，在所述反应处理器(10)内的反应区域，在反应处理器(10)的相对于内表面处于中心侧的位置注入含有所要追加的无机物质的追加液A、B，使反应处理进行。
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