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    プラズマ処理装置及びマイクロ波制御方法
    1.
    发明专利
    プラズマ処理装置及びマイクロ波制御方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021180070A

    公开(公告)日：2021-11-18

    申请号：JP2020083195

    申请日：2020-05-11

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 大沼 勇二 ,  加藤 秀生

    IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

    Abstract: 【課題】基準となる装置状態からのマイクロ波の特性変化を抑制できるプラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】プラズマ処理装置の制御器は、第1タイミングに関する周波数スペクトルを記憶部に記憶させ、第1タイミングから時間経過した第2タイミングにおいて、設定周波数、設定パワー及び設定帯域幅でマイクロ波を発生させるようにマイクロ波発生部を制御し、マイクロ波の進行波パワー及び反射波パワーを周波数ごとに測定するように復調部を制御し、復調部の測定結果に基づいて第2タイミングに関連する周波数スペクトルを算出し、第2タイミングに関連する周波数スペクトルと記憶部に記憶された第1タイミングに関する周波数スペクトルとの周波数ごとの差分が小さくなるように進行波パワーの波形を補正するための補正値を周波数ごとに算出し、算出された周波数ごとの補正値に基づいて進行波パワーの波形を補正するようにマイクロ波発生部を制御する。 【選択図】図10

    プラズマ処理装置、給電ユニット、及び載置台システム
    2.
    发明专利
    プラズマ処理装置、給電ユニット、及び載置台システム 审中-公开
    等离子体加工设备，动力输送单元和安装台系统

    公开(公告)号：JP2015082384A

    公开(公告)日：2015-04-27

    申请号：JP2013219281

    申请日：2013-10-22

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 今野 雅彦 ,  新宅 正行 ,  鈴木 隆司 ,  会田 倫崇 ,  岡田 泰三 ,  奥西 直彦 ,  加藤 秀生 ,  松本 直樹

    IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01L21/67103

    Abstract: 【課題】マイクロ波によって処理ガスを励起させるプラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】このプラズマ処理装置では、載置台の静電チャック内にヒータが設けられている。ヒータは、フィルタユニット及び棒状の給電体PE11,PE12を介してヒータ電源に接続されている。給電体は、絶縁体製の筒状部60,62の内孔に通されている。また、筒状部を介して伝播するマイクロ波を抑制するチョーク部70,72が、給電体と筒状部との間に設けられている。チョーク部は、導電性であり、第1部分及び第2部分を含んでいる。第1部分70a,72aは、給電体から該給電体の長手方向に交差する方向に延びている。第2部分70b,72bは、筒形状を有しており、筒状部と給電体との間において第1部分の周縁から延在している。 【選択図】図9

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过微波激发处理气体的等离子体处理装置。解决方案：等离子体处理装置包括设置在安装台的静电卡盘中的加热器。 加热器通过过滤器部件和杆状供电体PE11，PE12连接到加热器电源。 供电体插入由绝缘材料制成的圆筒形部分60,62的内孔中。 在供电体和圆筒形部分之间设置用于抑制通过圆筒形部分传播的微波的扼流部分70,72。 扼流部分是导电的并且包括第一部分和第二部分。 第一部分70a，72a从馈电体沿与供电体的较长方向交叉的方向延伸。 第二部分70b，72b具有圆柱形状，并且在第一部分的周围在圆柱形部分和供电体之间延伸。

    マイクロ波自動整合器及びプラズマ処理装置
    3.
    发明专利
    マイクロ波自動整合器及びプラズマ処理装置 审中-公开
    微波自动匹配单元和等离子体处理装置

    公开(公告)号：JP2016170940A

    公开(公告)日：2016-09-23

    申请号：JP2015049198

    申请日：2015-03-12

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 金子 和史 ,  加藤 秀生 ,  舩▲崎▼ 一憲 ,  大塚 雄二 ,  河田 進二

    IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/511 ,  H01P5/02 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32311 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32917

    Abstract: 【課題】マイクロ波放電方式によって生成されるプラズマの安定性を整合機能の改良により向上させること。 【解決手段】このマイクロ波自動整合器60は、4Eチューナとして構成され、反射係数測定部114、整合制御部116、設定部118および駆動部120を備える。整合制御部116は、反射係数測定部114より与えられる反射係数の測定値に基づいて、あるいは反射係数の測定値を無視した独立の制御ルーチンにしたがって、可動短絡板Q 1 〜Q 4 の位置を制御するための制御信号を駆動部120に与える。駆動部120は、電動機M 1 ,M 2 の発生する駆動力をそれぞれ2組の可動短絡板(Q 1 ,Q 2 ),(Q 3 ,Q 4 )に伝える2系統の伝動機構J 1 ,J 2 と、整合制御部116からの制御信号にしたがって電動機M 1 ,M 2 を電気的に駆動する2系統のドライバ回路DR 1 ,DR 2 とを有している。 【選択図】 図3

    Abstract translation: 要解决的问题：通过提高匹配功能来提高由微波放电系统产生的等离子体的稳定性。解决方案：微波自动匹配单元60被配置为4E调谐器，并且包括反射系数测量部114，匹配 控制部分116，设置部分118和驱动部分120.基于由反射系数测量部分114给出的反射系数的测量值，或者根据忽略反射系数的测量值的独立控制程序，匹配控制部分 116给出了用于控制可动短路板Q-Q到驱动部分120的位置的控制信号。驱动部分120具有两个传动机构J，J，用于将从电动机M，M产生的驱动力分别传递到两个 一组可动短路板（Q，Q），（Q，Q）和两个驱动电路DR，DR系统，用于电驱动电 ctric电机M，根据匹配控制部分116的控制信号。选择图：图3

    プラズマ処理装置
    5.
    发明专利
    プラズマ処理装置 审中-公开
    等离子体加工装置

    公开(公告)号：JP2015109249A

    公开(公告)日：2015-06-11

    申请号：JP2014008405

    申请日：2014-01-21

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 新宅 正行 ,  鈴木 隆司 ,  今野 雅彦 ,  会田 倫崇 ,  岡田 泰三 ,  加藤 秀生 ,  松本 直樹

    IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32642 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32275

    Abstract: 【課題】マイクロ波を用いるプラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】載置台20、フォーカスリングFR、第1の筒状部TP1、環状部AP、第2の筒状部TP2、及びチョーク部CHを備えるプラズマ処理装置で、フォーカスリングFRは、載置台20の静電チャックESCを囲むように環状に延在し、第1の筒状部TP1は誘電体製であり、フォーカスリングFRの下方において載置台20の下部電極LEの外周に沿って延在し、環状部APは誘電体製であり、フォーカスリングFRと第1の筒状部TP1の間に設けられる。第2の筒状部TP2は導電性であり、第1の筒状部TP1の外周に沿って延在している。チョーク部は誘電体製であり、フォーカスリングFR及び環状部APを介して第1の筒状部TP1を伝播するマイクロ波を抑制し、第1の筒状部TP1から外側に突出し、且つ、環状に延在し、第2の筒状部TP2はチョーク部を覆っている。 【選択図】図6

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种使用微波的等离子体处理装置。解决方案：等离子体处理装置包括安装板20，聚焦环FR，第一圆柱形部分TP1，环形部分AP，第二圆柱形部分TP2和 扼流部分CH。 聚焦环FR环形地延伸以包围安装板20的静电卡盘ESC.第一圆柱形部分TP1由电介质材料制成并且沿着安装板20的下电极LE的外周延伸，聚焦环FR 。 环状部AP由电介质构成，设置在聚焦环FR与第一圆筒部TP1之间。 第二圆筒部TP2具有导电性，并且沿着第一圆筒部TP1的外周延伸。 扼流圈由电介质材料制成，通过聚焦环FR和环形部分AP限制在第一圆筒部TP1中传播的微波从第一圆筒部TP1向外突出，并且环状地延伸。 第二圆筒部TP2覆盖扼流部。

    インピーダンス整合装置、異常診断方法及び異常診断プログラム
    6.
    发明专利
    インピーダンス整合装置、異常診断方法及び異常診断プログラム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020174225A

    公开(公告)日：2020-10-22

    申请号：JP2019073257

    申请日：2019-04-08

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 加藤 秀生

    IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H03H7/40

    Abstract: 【課題】インピーダンス整合装置を構成する各部品の異常を自己診断する。 【解決手段】インピーダンス整合装置110は、高周波電源と負荷との間に接続された可変容量素子124、125と、高周波電源と負荷との間のインピーダンス整合を判定するための指標値と、高周波電源から入力される高周波の状態を示す第1状態値とを検出する第1検出器(入力検出器130)と、負荷へ出力される高周波の状態を示す第2状態値を検出する第2検出器(出力検出器140)と、第1検出器により検出される指標値がインピーダンス整合の完了を示す目標範囲に収まるように、可変容量素子の容量値を段階的に調整する調整部と、調整部により調整された容量値と、第1検出器により検出される第1状態値と、第2検出器により検出される第2状態値とに基づいて、可変容量素子、第1検出器又は第2検出器の異常を診断する診断部と、を有する。 【選択図】図2

    マグネトロンを検査する方法
    8.
    发明专利
    マグネトロンを検査する方法 审中-公开
    检查磁铁的方法

    公开(公告)号：JP2016081908A

    公开(公告)日：2016-05-16

    申请号：JP2015154248

    申请日：2015-08-04

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 金子 和史 ,  加藤 秀生 ,  舩▲崎▼ 一憲 ,  ▲高▼橋 栄治

    IPC: C23C16/511 ,  H01J23/00

    CPC classification number: G01R31/255 ,  H01J37/34

    Abstract: 【課題】マグネトロンを高精度に検査する。 【解決手段】 一実施形態の方法は、マグネトロンによる高周波の発生の開始から所定時間以上の時間が経過しており、進行波の電力と設定電力との差が第1の所定値以下であり、反射波の電力が第2の所定値以下であるときのマグネトロンの現在の状態を特定するための一以上の測定値から得られるマグネトロンの現在の状態を示す現在のパラメータと、該現在のパラメータに対応するマグネトロンの初期の状態を示す初期のパラメータとの比較に基づいて、マグネトロンの寿命を判定する。 【選択図】図6

    Abstract translation: 要解决的问题：以高精度检查磁控管。解决方案：在根据一个实施例的方法中，基于从表示从一个或多个磁控管获得的磁控管的当前状态的当前参数的比较来确定磁控管的寿命， 当磁控管产生高频开始时，在等于或大于预定时间段的时间段内指定磁控管的当前状态的更多测量值，以及当磁控管的功率之间的差异 逐行波和设定功率是第一预定值或更小，并且反射波的功率是第二预定值或更小时，以及表示与当前参数对应的磁控管的初始状态的初始参数。选择图 ：图6

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