光学元件及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1950724A

    公开(公告)日:2007-04-18

    申请号:CN200580014872.2

    申请日:2005-05-09

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种抑制数值孔径减小和噪声增加的结构、元件和光学元件及其方便、低成本、高效的制造方法。本发明涉及的结构其中包括:在基底材料(1)上形成并具有呈预定形状的结构单元的树脂图案(A)(3);以及在树脂图案(A)(3)的表面上形成,并具有按短于或等于所用光的波长范围的周期配置的、呈预定形状的微观结构单元的树脂图案(B)(5)。所涉及的此结构的制造方法,其中包含下列步骤:(i)在基底材料(1)上形成树脂层(2),并使该树脂层(2)经过曝光-显影处理,以便形成具有呈预定形状的结构单元的树脂图案(A)(3);以及(ii)使该树脂图案(A)(3)的表面经过曝光-显影处理,以便形成具有按短于或等于所用光的波长范围的周期配置的、呈预定形状的微观结构单元的树脂图案(B)(5),其中步骤(i)和(ii)具有顺序进行的。

    具有抗反射结构的光学元件和制造具有抗反射结构的光学元件的方法

    公开(公告)号:CN1871530A

    公开(公告)日:2006-11-29

    申请号:CN200480031247.4

    申请日:2004-10-29

    CPC classification number: C03B11/082 C03B2215/17 C03B2215/412 C03B2215/66

    Abstract: 本发明的目的是提供制造具有抗反射结构的光学元件的方法,该方法使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复制造。在石英玻璃衬底的表面以0.15μm的间距形成直径为0.15μm的柱状Cr掩模。将其表面形成柱状Cr掩模的石英玻璃衬底放入RF干法刻蚀设备,并用CHF3+O2气体对石英玻璃衬底的表面进行刻蚀。因而,在石英玻璃衬底的表面形成间距为0.15μm,高度为0.15μm的锥形抗反射结构。为了形成具有抗反射结构的模具,在拥有锥形抗反射结构的石英玻璃衬底的表面(压制表面)上形成用于保护表面的厚度为0.05μm的Ir-Rh合金薄膜。利用具有抗反射结构的模具使其上涂敷含有精细碳(C)微粒的用于脱模的脱模剂的光学材料(冕基硼硅玻璃)压制成型,并且该压制成型的光学材料在没有冷却的情况下从具有抗反射结构的模具上脱离。压制成型的光学材料冷却以后去除脱模剂。

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