公开(公告)号：CN101587313B

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN200910140779.6

申请日：2009-05-15

Applicant: 柯尼卡美能达商用科技株式会社

Inventor： 板垣整子 ,  秋田宏

IPC: G03G15/08 ,  G03G15/01

CPC classification number: G03G15/0921

Abstract: 本发明课题是在小型显影辊中能够使显影剂适当剥离。用来解决课题的手段如下，显影辊(41)表面中，当以由剥离极(N2)定出的法线方向的磁通密度为最大之处为基准位置时，存在一定的磁通密度与磁通密度的最大值略相同的区域，该区域含所述基准位置。

公开(公告)号：CN102759877A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201210130316.3

申请日：2012-04-27

Applicant: 柯尼卡美能达商用科技株式会社

Inventor： 五十里亮英 ,  板垣整子 ,  小林一敏 ,  高谷俊一 ,  古田达也

IPC: G03G21/00 ,  G03G15/00

CPC classification number: G03G21/0094

Abstract: 本发明提供不会浪费润滑剂、能够均匀地将润滑剂涂布在像担载体上的润滑剂涂布装置以及图像形成装置。本发明所涉及的润滑剂涂布装置(20)具有：润滑剂供给机构(12)，该润滑剂供给机构(12)向被驱动旋转的像担载体(1)的外周面供给润滑剂(11)；以及润滑剂平整机构(13)，该润滑剂平整机构(13)配置在润滑剂供给机构(12)的像担载体(1)的旋转方向下游侧，用于对被供给至外周面的润滑剂(11)进行平整，其中，润滑剂平整机构(13)与像担载体(1)的外周面面接触的同时进行旋转，由此，对利用润滑剂供给机构(12)供给到像担载体(1)上的润滑剂(11)进行平整。

公开(公告)号：CN101587313A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200910140779.6

申请日：2009-05-15

Applicant: 柯尼卡美能达商用科技株式会社

Inventor： 板垣整子 ,  秋田宏

IPC: G03G15/08 ,  G03G15/01

CPC classification number: G03G15/0921

Abstract: 本发明课题是在小型显影辊中能够使显影剂适当剥离。用来解决课题的手段如下，显影辊(41)表面中，当以由剥离极(N2)定出的法线方向的磁通密度为最大之处为基准位置时，存在一定的磁通密度与磁通密度的最大值略相同的区域，该区域含所述基准位置。