曝光装置的反射镜单元以及利用该单元的图像形成装置

    公开(公告)号:CN102023512B

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201010280701.7

    申请日:2010-09-10

    Inventor: 森田真次

    CPC classification number: G02B26/105 G03G15/0435

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种曝光装置的反射镜单元,其能够避免在反射镜角度调节时的反射镜的扭曲旋转,并且不容易受到振动影响。通过将反射镜(64)以其长度方向相对于扫描光轴L0向反射镜宽度方向倾斜地配置,将反射镜(64)的一点支撑侧的支撑点A设定在反射镜(64)的宽度方向中央之后,将该支撑点A和两点支撑侧的支撑点B设定在扫描光轴L0上,从而能够将反光镜旋转轴0对准到扫描光轴L0上,并且能够将反射镜重心G设定在连接三个支撑点A、B、C的三角形区域内。其结果,能够避免反射镜角度调节时的反射镜(64)的扭曲旋转,并且能够避免因反射镜重心G的偏离而产生的振动影响。

    图像形成装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103048902B

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201210378083.9

    申请日:2012-10-08

    Abstract: 本发明提供一种能够对起因于各构成的体积变动的作为光照射装置整体的激光位置变动进行修正的图像形成装置。本发明所涉及的图像形成装置的特征在于,具有:光照射装置(3),其照射激光;图像担载体(1),其被激光曝光,并在被曝光的部分形成潜像;顶靠部件(31),其被固定在光照射装置(3),并与规定基准位置的基准部件F顶靠;顶靠部件(31)因温度变化而使体积变动,光照射装置(3)相对于基准部件F的位置,向与因该温度变化所引起的沿激光的照射方向的焦点位置的变动相反的方向变动。

    曝光装置的反射镜单元以及利用该单元的图像形成装置

    公开(公告)号:CN102023512A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN201010280701.7

    申请日:2010-09-10

    Inventor: 森田真次

    CPC classification number: G02B26/105 G03G15/0435

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种曝光装置的反射镜单元,其能够避免在反射镜角度调节时的反射镜的扭曲旋转,并且不容易受到振动影响。通过将反射镜(64)以其长度方向相对于扫描光轴L0向反射镜宽度方向倾斜地配置,将反射镜(64)的一点支撑侧的支撑点A设定在反射镜(64)的宽度方向中央之后,将该支撑点A和两点支撑侧的支撑点B设定在扫描光轴L0上,从而能够将反光镜旋转轴0对准到扫描光轴L0上,并且能够将反射镜重心G设定在连接三个支撑点A、B、C的三角形区域内。其结果,能够避免反射镜角度调节时的反射镜(64)的扭曲旋转,并且能够避免因反射镜重心G的偏离而产生的振动影响。

    成像装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101329530A

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200810127102.4

    申请日:2008-06-19

    Inventor: 森田真次

    Abstract: 本发明公开了一种成像装置,包括光电导体;使所述光电导体曝光的曝光装置;防尘元件,其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游;和盖,其支撑所述曝光装置和所述防尘元件;其中,所述盖围绕枢轴打开和关闭,所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。

    图像形成装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103048902A

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN201210378083.9

    申请日:2012-10-08

    Abstract: 本发明提供一种能够对起因于各构成的体积变动的作为光照射装置整体的激光位置变动进行修正的图像形成装置。本发明所涉及的图像形成装置的特征在于,具有:光照射装置(3),其照射激光;图像担载体(1),其被激光曝光,并在被曝光的部分形成潜像;顶靠部件(31),其被固定在光照射装置(3),并与规定基准位置的基准部件F顶靠;顶靠部件(31)因温度变化而使体积变动,光照射装置(3)相对于基准部件F的位置,向与因该温度变化所引起的沿激光的照射方向的焦点位置的变动相反的方向变动。

    成像装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101329530B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200810127102.4

    申请日:2008-06-19

    Inventor: 森田真次

    Abstract: 本发明公开了一种成像装置,包括光电导体;使所述光电导体曝光的曝光装置;防尘元件,其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游;和盖,其支撑所述曝光装置和所述防尘元件;其中,所述盖围绕枢轴打开和关闭,所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。

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