公开(公告)号：CN106457765B

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201580032527.5

申请日：2015-06-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 有田浩了 ,  门马千明 ,  源田和男

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42

Abstract: 本发明的课题在于提供气体阻隔性的面内的波动少、反复弯折时的气体阻隔性的劣化得到抑制的气体阻隔膜和其制造方法。本发明的气体阻隔膜是在基材膜上具有气体阻隔层的气体阻隔膜，其特征在于，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为评价试样，使用具有与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层的水蒸汽透过率评价单元通过特定的评价方法进行评价而得到的水蒸汽透过率(WVTR)的标准偏差(σ)满足下述式(I)。式(I)：0.01≤σ≤0.40。

公开(公告)号：CN106457765A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580032527.5

申请日：2015-06-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 有田浩了 ,  门马千明 ,  源田和男

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42

CPC classification number: B32B9/00 ,  C23C16/42

Abstract: 本发明的课题在于提供气体阻隔性的面内的波动少、反复弯折时的气体阻隔性的劣化得到抑制的气体阻隔膜和其制造方法。本发明的气体阻隔膜是在基材膜上通过卷对卷形成气体阻隔层的气体阻隔膜，其特征在于，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为评价试样，使用具有与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层的水蒸汽透过率评价单元通过特定的评价方法进行评价而得到的水蒸汽透过率(WVTR)的标准偏差(σ)满足下述式(I)。式(I)：0.01≤σ≤0.40。