公开(公告)号：CN101389981A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200780006390.1

申请日：2007-02-20

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 冈野贤 ,  小岛良和

IPC: G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B1/111 ,  G02B5/30 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31511

Abstract: 本发明涉及防反射层具有优异的耐药品性、表面硬度、耐湿热性粘合的防反射膜、该防反射膜的制造方法、使用该防反射膜的偏振片和显示装置。该防反射膜包括透明树脂膜、以及位于透明树脂膜的至少一面上的硬涂层和防反射层，其中，该硬涂层至少含有活性射线固化树脂、聚硅氧烷表面活性剂以及聚氧醚化合物，该聚硅氧烷表面活性剂和聚氧醚化合物的含量的质量比为1.0∶1.0～0.10∶1.0。

公开(公告)号：CN101384927A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200780005990.6

申请日：2007-02-16

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 冈野贤 ,  小岛良和

IPC: G02B1/11 ,  B32B27/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/111 ,  G02B5/3025 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31935

Abstract: 本发明涉及可以防止硬涂层的粘连故障、防反射膜不会出现斑点状不均等外观异常，以及粘合性良好的防反射膜、防反射膜的制造方法、硬涂膜、使用了该防反射膜或该硬涂层的偏振片和显示装置。该防反射膜包括透明树脂膜、以及位于透明树脂膜的至少一面上的硬涂层和防反射层，其中，该硬涂层至少含有聚氧化乙烯油基醚化合物以及活性射线固化树脂。

公开(公告)号：CN100468083C

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200610004231.5

申请日：2006-02-13

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 小岛良和 ,  前岛胜己 ,  池田俊之

IPC: G02B1/11 ,  G02F1/1335 ,  G02B5/30 ,  G02F1/133

CPC classification number: G02B1/111

Abstract: 本发明提供耐擦伤性、铅笔硬度、龟裂、雾度值、耐光性、平面性改善的防反射膜及其制法，通过使用该防反射膜，提供视觉辨认性优异的偏振片、显示装置。上述防反射膜是在具有膜厚8～20μm的硬涂层的透明基体材料膜上设置2层或2层以上光学干涉层的防反射膜，其特征在于，依次叠层由含有(a)粒径为10～200nm的金属氧化物微粒、(b)金属化合物、(c)电离辐射固化型树脂的组合物构成的折射率比该透明基体材料膜高的高折射率层；和由含有(d)通式Si(OR)4表示的有机硅化合物或由它构成的聚合物、以及(e)具有外壳层且内部为多孔的或空穴的中空二氧化硅类微粒构成的折射率比该透明基体材料膜低的低折射率层。

公开(公告)号：CN1821813A

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200610004231.5

申请日：2006-02-13

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 小岛良和 ,  前岛胜己 ,  池田俊之

IPC: G02B1/11 ,  G02F1/1335 ,  G02B5/30 ,  G02F1/133

CPC classification number: G02B1/111

Abstract: 本发明提供耐擦伤性、铅笔硬度、龟裂、雾度值、耐光性、平面性改善的防反射膜及其制法，通过使用该防反射膜，提供视觉辨认性优异的偏振片、显示装置。上述防反射膜是在具有膜厚8～20μm的硬涂层的透明基体材料膜上设置2层或2层以上光学干涉层的防反射膜，其特征在于，依次叠层由含有(a)粒径为10～200nm的金属氧化物微粒、(b)金属化合物、(c)电离辐射固化型树脂的组合物构成的折射率比该透明基体材料膜高的高折射率层；和由含有(d)通式Si(OR)4表示的有机硅化合物或由它构成的聚合物、以及(e)具有外壳层且内部为多孔的或空穴的中空二氧化硅类微粒构成的折射率比该透明基体材料膜低的低折射率层。