公开(公告)号：CN101980979B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN200980111529.8

申请日：2009-03-24

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 速水俊一 ,  福本直之 ,  长谷川研人

IPC: C03B11/08 ,  C03B11/00

CPC classification number: C03B11/086 ,  C03B19/101 ,  C03B2215/03 ,  C03B2215/11 ,  C03B2215/12 ,  C03B2215/16 ,  C03B2215/20 ,  C03B2215/22 ,  C03B2215/32 ,  C03B2215/34

Abstract: 一种用来接受滴下的熔融玻璃滴的下模。在基材上形成覆盖层，在基材和覆盖层之间形成中间层，在覆盖层的表面上实施使算术平均粗糙度(Ra)增加的粗面化处理。粗面化处理后的覆盖层表面的算术平均粗糙度(Ra)在0.01μm以上，且粗糙度曲线要素的平均长(RSm)在0.5μm以下。

公开(公告)号：CN101980979A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200980111529.8

申请日：2009-03-24

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 速水俊一 ,  福本直之 ,  长谷川研人

IPC: C03B11/08 ,  C03B11/00

CPC classification number: C03B11/086 ,  C03B19/101 ,  C03B2215/03 ,  C03B2215/11 ,  C03B2215/12 ,  C03B2215/16 ,  C03B2215/20 ,  C03B2215/22 ,  C03B2215/32 ,  C03B2215/34

Abstract: 一种用来接受滴下的熔融玻璃滴的下模。在基材上形成覆盖层，在基材和覆盖层之间形成中间层，在覆盖层的表面上实施使算术平均粗糙度(Ra)增加的粗面化处理。粗面化处理后的覆盖层表面的算术平均粗糙度(Ra)在0.01μm以上，且粗糙度曲线要素的平均长(RSm)在0.5μm以下。