公开(公告)号：CN113557078A

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN202080020215.3

申请日：2020-02-18

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 杉田航 ,  小川祐一

IPC: B01F1/00 ,  B01F3/08 ,  B01F5/00 ,  B01F15/04 ,  H01L21/304

Abstract: 稀药液制造装置(1)具有从药液储槽供给药液(S)的柱塞泵以及药液供给管(3)。药液供给管(3)的末端为药液(S)的注入点(11)。该药液供给管(3)经由穿孔接头(13)插入到作为第一配管的超纯水流路(12)的径向的大致中央。而且，在比作为注入点(11)的穿孔接头(13)更靠下游侧设有作为电导率测量机构的电导率计(14)，其与前述控制机构(图中未示出)连接，根据电导率计(14)的测定值，能够控制柱塞泵(4)。只要是这种稀药液制造装置，能够以简单的结构稳定地制造极低酸、碱等浓度的稀药液。

公开(公告)号：CN116368600A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202180063164.7

申请日：2021-09-22

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 杉田航

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的晶片洗涤水供给系统(1)具有：晶片洗涤水制造部(2)，制造药剂浓度的晶片洗涤水；补给管(3)，从晶片洗涤水制造部(2)延伸；以及循环式洗涤水供给管(4)，与所述补给管(3)连接。循环式洗涤水供给管(4)能够经由输送泵(11)向用水点(5)输送，在洗涤水供给管(4)的供给侧(4A)设置有供给侧流量计(12)。进一步，在循环式洗涤水供给管(4)的回收侧(4B)设置有回收侧流量计(21)。这些供给侧流量计(12)和回收侧流量计(21)的测定结果和通过第二监测器(23)得到的基于各种水质传感器的水质数据被发送至控制装置，通过该控制装置能够对晶片洗涤水制造部(2)进行控制。通过设为这种结构，本发明的晶片洗涤水供给系统(1)的多余水较少、混入溶解气体的可能性低且能够节省空间。