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公开(公告)号:CN116670586A
公开(公告)日:2023-08-29
申请号:CN202180087522.8
申请日:2021-12-28
Applicant: 株式会社三养社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物以及各自包含该萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物的光致产酸剂和光刻胶组合物,更详细地,涉及一种萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物以及各自包含该萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物的光致产酸剂和光刻胶组合物,其中所述萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物对i‑线(365nm)波长的光具有优异的吸收能力,由于在有机溶剂中具有非常高的溶解性,所以非常容易制备聚合性组合物,并且具有优异的热稳定性,而且表现出良好的产酸率。
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公开(公告)号:CN109896990A
公开(公告)日:2019-06-18
申请号:CN201811494814.X
申请日:2018-12-07
IPC: C07D209/86 , C07D209/88 , C08F2/48 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及由化学式1或化学式2表示的咔唑肟酯衍生化合物以及含有该化合物的光聚合引发剂和光敏组合物。在化学式1和化学式2中,A和R1-R4与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号:CN116249937A
公开(公告)日:2023-06-09
申请号:CN202180066646.8
申请日:2021-09-29
Applicant: 株式会社三养社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物以及包含该萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物的光致产酸剂和光刻胶组合物,更详细地,涉及一种如下的萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物以及包含该萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物的光致产酸剂和光刻胶组合物,所述萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物对i‑线(365nm)波长的光具有优异的吸光度,在有机溶剂中具有高溶解性,并且具有优异的热稳定性,而且表现出良好的产酸率。
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公开(公告)号:CN109896990B
公开(公告)日:2023-04-21
申请号:CN201811494814.X
申请日:2018-12-07
IPC: C07D209/86 , C07D209/88 , C08F2/48 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及由化学式1或化学式2表示的咔唑肟酯衍生化合物以及含有该化合物的光聚合引发剂和光敏组合物。在化学式1和化学式2中,A和R1‑R4与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号:CN107250105B
公开(公告)日:2019-08-20
申请号:CN201680008616.0
申请日:2016-02-02
IPC: C07C251/66 , C07C251/68 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及新型肟酯衍生物化合物、包含其的光聚合引发剂及光致抗蚀剂组合物,详细而言,根据本发明的肟酯衍生物化合物由于敏感度、耐热性、耐光性、耐化学性和耐显影性优异,因此即使以少量使用也能够提供对TFT‑LCD制造工序中的曝光和后烘工序等有效的光聚合引发剂和光致抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号:CN107250105A
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201680008616.0
申请日:2016-02-02
IPC: C07C251/66 , C07C251/68 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及新型肟酯衍生物化合物、包含其的光聚合引发剂及光致抗蚀剂组合物,详细而言,根据本发明的肟酯衍生物化合物由于敏感度、耐热性、耐光性、耐化学性和耐显影性优异,因此即使以少量使用也能够提供对TFT‑LCD制造工序中的曝光和后烘工序等有效的光聚合引发剂和光致抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号:CN104661997A
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:CN201380024274.8
申请日:2013-05-03
IPC: C07C251/66 , C07C13/567 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , C07C251/66 , C07C251/68 , C07C2603/18 , G03F7/0007 , G03F7/031 , G03F7/105
Abstract: 提供了一种新型芴类肟酯化合物,及含有该芴类肟酯化合物的光聚合引发剂和光阻剂组合物。
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