公开(公告)号：CN1042368C

公开(公告)日：1999-03-03

申请号：CN94190477.6

申请日：1994-07-07

Applicant: 株式会社东金

Inventor： 户叶祐一 ,  村松良二 ,  田辺高信 ,  武田次夫

IPC: G02F1/035

CPC classification number: G02F1/2255 ,  G02F1/225 ,  G02F2001/212 ,  G02F2201/07 ,  G02F2202/07 ,  G02F2203/20 ,  G02F2203/21

Abstract: 具有基板4、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导5、在基板4上从入射光波导5分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的2个位相偏移光波导6和在基板4上把位相偏移光波导6合流形成的出射光波导7。位相偏移光波导6中至少一边具有使偏振反向的偏振反向部分8。也可以具有在位相偏移光波导6的一部分或多个部分的区域形成的光透过膜。也可具有在位相偏移光波导6上或其附近的一部分区域形成的缓冲层14。也可以在没有缓冲层14的区域的一部分或全部形成的向位相偏移光波导6施加应力的透明物质膜。也可具有向位相偏移光波导6之一的一部分施加应力的应力施加部件。也可以具有向位相偏移光波导6之一的一部分或全部照射光的光照射装置26。

公开(公告)号：CN1111919A

公开(公告)日：1995-11-15

申请号：CN94190477.6

申请日：1994-07-07

Applicant: 株式会社东金

Inventor： 户叶祐一 ,  村松良二 ,  田辺高信 ,  武田次夫

IPC: G02F1/035

CPC classification number: G02F1/2255 ,  G02F1/225 ,  G02F2001/212 ,  G02F2201/07 ,  G02F2202/07 ,  G02F2203/20 ,  G02F2203/21

Abstract: 具有基板4、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导5、在基板4上从入射光波导5分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的2个位相偏移光波导6和在基板4上把位相偏移光波导6合流形成的出射光波导7。位相偏移光波导6中至少一边具有使偏振反向的偏振反向部分8。也可以具有在位相偏移光波导6的一部分或多个部分的区域形成的光透过膜。也可具有在位相偏移光波导6上或其附近的一部分区域形成的缓冲层14。也可以在没有缓冲层14的区域的一部分或全部形成的向位相偏移光波导6施加应力的透明物质膜。也可具有向位相偏移光波导6之一的一部分施加应力的应力施加部件。也可以具有向位相偏移光波导6之一的一部分或全部照射光的光照射装置26。1)、驱动臂(12)及四杆机构。