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公开(公告)号:CN104303283B
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201380023509.1
申请日:2013-10-07
Applicant: 株式会社大福
IPC: H01L21/677 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67389 , Y10T137/0352 , Y10T137/0396
Abstract: 本发明提供半导体晶片制造系统中向STB提供不活泼气体的方法和利用该方法的半导体晶片制造系统,上述半导体晶片制造系统中向STB提供不活泼气体的方法包括如下步骤:检测前开式晶片传送盒装载到STB上并产生第一输入信号;以及根据所述第一输入信号使不活泼气体阀打开,向所述STB提供氮气。
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公开(公告)号:CN104303283A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201380023509.1
申请日:2013-10-07
Applicant: 株式会社大福
IPC: H01L21/677 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67389 , Y10T137/0352 , Y10T137/0396 , H01L21/67393 , H01L21/02 , H01L21/67763 , H01L2221/683
Abstract: 本发明提供半导体晶片制造系统中向STB提供不活泼气体的方法和利用该方法的半导体晶片制造系统,上述半导体晶片制造系统中向STB提供不活泼气体的方法包括如下步骤:检测前开式晶片传送盒装载到STB上并产生第一输入信号;以及根据所述第一输入信号使不活泼气体阀打开,向所述STB提供氮气。
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