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公开(公告)号:CN100456455C
公开(公告)日:2009-01-28
申请号:CN200510092179.9
申请日:2005-08-22
Applicant: 株式会社太空思科
IPC: H01L23/00
CPC classification number: H05K3/4046 , H01L23/10 , H01L23/49827 , H01L2924/0002 , H01L2924/01079 , H05K1/0306 , H05K3/388 , H05K2201/09572 , H05K2201/10242 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了一种衬底,其中设置有多个通路接触装置,且其中每个通路接触装置包括作为通孔而形成于衬底中的通路孔;沉积在通路孔的内周面上的金属膜;以及填充在由金属膜限定的空腔中的焊料。
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公开(公告)号:CN1741267A
公开(公告)日:2006-03-01
申请号:CN200510092179.9
申请日:2005-08-22
Applicant: 株式会社太空思科
IPC: H01L23/00
CPC classification number: H05K3/4046 , H01L23/10 , H01L23/49827 , H01L2924/0002 , H01L2924/01079 , H05K1/0306 , H05K3/388 , H05K2201/09572 , H05K2201/10242 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了一种衬底,其中设置有多个通路接触装置,且其中每个通路接触装置包括作为通孔而形成于衬底中的通路孔;沉积在通路孔的内周面上的金属膜;以及填充在由金属膜限定的空腔中的焊料。
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