曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

    公开(公告)号:CN108139685A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680059115.5

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 原笃史

    Abstract: 本发明提供一种液晶曝光装置,液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部,该第2驱动部,在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时,使读头载台往X轴或Y轴方向移动。

    曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

    公开(公告)号:CN112415863B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202011313416.0

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 原笃史

    Abstract: 本发明提供一种液晶曝光装置,液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部,该第2驱动部,在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时,使读头载台往X轴或Y轴方向移动。

    曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

    公开(公告)号:CN108139685B

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN201680059115.5

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 原笃史

    Abstract: 本发明提供一种液晶曝光装置,液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部,该第2驱动部,在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时,使读头载台往X轴或Y轴方向移动。

    移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN107015440A

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201611143637.1

    申请日:2013-08-05

    CPC classification number: G03F7/707

    Abstract: 本发明提供移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法和器件制造方法。曝光方法包含如下步骤:使具有掩模图案的掩模(M)的上表面与掩模导流构件(40)的下表面相对;使掩模(M)以非接触方式悬垂支承在掩模导流构件(40)上;使掩模保持装置(60)保持悬垂支承在掩模导流构件(40)上的掩模(M);使用掩模保持装置(60),使掩模(M)在扫描方向上相对于曝光用照明光移动,并且,相对于曝光用照明光而在扫描方向上驱动作为曝光对象物体的基板,将掩模图案转印到基板上。

    曝光方法、平板显示器的制造方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN104662481A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201380049848.7

    申请日:2013-08-05

    CPC classification number: G03F7/707

    Abstract: 曝光方法包含如下步骤:使具有掩模图案的掩模(M)的上表面与掩模导流构件(40)的下表面相对;使掩模(M)以非接触方式悬垂支承在掩模导流构件(40)上;使掩模保持装置(60)保持悬垂支承在掩模导流构件(40)上的掩模(M);使用掩模保持装置(60),使掩模(M)在扫描方向上相对于曝光用照明光移动,并且,相对于曝光用照明光而在扫描方向上驱动作为曝光对象物体的基板,将掩模图案转印到基板上。

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