公开(公告)号：CN1117285C

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：CN00133647.9

申请日：2000-11-30

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 小枝胜 ,  田中裕次 ,  副岛章雄

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G03F7/0005 ,  G01J3/1838 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/028 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2260/63

Abstract: 一种全息光栅，其中相对在光致抗蚀层2上，按照大于所需槽的深度的值通过曝光方式形成的衍射光栅图形，沿与抗蚀图形的刻线方向相垂直，并且相对主板的法线方向的斜上的方向，借助按照O2/(CF4+O2)在0.1～0.9的比例范围而适当混合的CF4与O2的混合气体，进行蚀刻处理，直至光致抗蚀层2完全消失，直接在光学玻璃主板1上，刻线而形成所需深度的槽。该全息光栅具有耐久性，漫射光值优良，衍射效率较高，并且较宽波段的衍射变化较小。

公开(公告)号：CN1310346A

公开(公告)日：2001-08-29

申请号：CN00133647.9

申请日：2000-11-30

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 小枝胜 ,  田中裕次 ,  副岛章雄

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G03F7/0005 ,  G01J3/1838 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/028 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2260/63

Abstract: 一种全息光栅,其中相对在光致抗蚀层2上,按照大于所需槽的深度的值通过曝光方式形成的衍射光栅图形,沿与抗蚀图形的刻线方向相垂直,并且相对主板的法线方向的斜上的方向,借助按照O2/(CF4+O2)在0.1～0.9的比例范围而适当混合的CF4与O2的混合气体,进行蚀刻处理,直至光致抗蚀层2完全消失,直接在光学玻璃主板1上,刻线而形成所需深度的槽。该全息光栅具有耐久性,漫射光值优良,衍射效率较高,并且较宽波段的衍射变化较小。