公开(公告)号：CN108475623A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780007448.8

申请日：2017-02-03

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 和食雄大 ,  宫城聪 ,  三桥毅

IPC: H01L21/027 ,  B05C9/10 ,  B05D3/06 ,  H01L21/677

CPC classification number: B05C9/10 ,  B05D3/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

Abstract: 一种基板处理装置，通过设置于热处理部的除电装置来进行基板的除电处理。在除电装置OWE中，使保持基板W的保持部(434)以及出射真空紫外线的出射部(300)中的至少一方相对于另一方沿着一个方向相对地移动。此时，由出射部出射的真空紫外线UV照射于基板的一面。通过对基板的整个一面照射真空紫外线，结束除电处理。然后，除电处理后的基板被搬运至涂敷处理部的涂敷处理单元。在涂敷处理单元中，在除电处理后的基板的一面形成处理液的膜。

公开(公告)号：CN108475623B

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN201780007448.8

申请日：2017-02-03

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 和食雄大 ,  宫城聪 ,  三桥毅

IPC: H01L21/027 ,  B05C9/10 ,  B05D3/06 ,  H01L21/677

Abstract: 一种基板处理装置，通过设置于热处理部的除电装置来进行基板的除电处理。在除电装置OWE中，使保持基板W的保持部(434)以及出射真空紫外线的出射部(300)中的至少一方相对于另一方沿着一个方向相对地移动。此时，由出射部出射的真空紫外线UV照射于基板的一面。通过对基板的整个一面照射真空紫外线，结束除电处理。然后，除电处理后的基板被搬运至涂敷处理部的涂敷处理单元。在涂敷处理单元中，在除电处理后的基板的一面形成处理液的膜。