公开(公告)号：CN102498544B

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201080041486.3

申请日：2010-09-16

Applicant: 株式会社普利司通

Inventor： 稻宫隆人 ,  桥元贤志 ,  甲斐田荣三

IPC: H01L21/027 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  B32B3/26 ,  B32B27/30 ,  B29K33/04 ,  B32B3/30

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B29K2033/08 ,  B29K2033/12 ,  B29K2105/246

Abstract: 本发明提供一种光固化性转印片，其是能够有利地用于纳米压印工艺法中中间压模的制作的光固化性转印片，其与中间压模的制作时使用的具有微细凹凸图案的模具的脱模性、及与从中间压模转印了凹凸图案的光固化性树脂的脱模性良好，并且凹凸图案的转印性优异。本发明还提供一种使用上述光固化性转印片形成微细凹凸图案的方法。一种光固化性转印片(10)，其特征在于，其具有通过加压能够变形、由包含聚合物和反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)，上述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。进而，本发明还提供一种使用上述光固化性转印片来形成凹凸图案的方法。

公开(公告)号：CN102498544A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041486.3

申请日：2010-09-16

Applicant: 株式会社普利司通

Inventor： 稻宫隆人 ,  桥元贤志 ,  甲斐田荣三

IPC: H01L21/027 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  B32B3/26 ,  B32B27/30 ,  B29K33/04 ,  B32B3/30

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B29K2033/08 ,  B29K2033/12 ,  B29K2105/246

Abstract: 本发明提供一种光固化性转印片，其是能够有利地用于纳米压印工艺法中中间压模的制作的光固化性转印片，其与中间压模的制作时使用的具有微细凹凸图案的模具的脱模性、及与从中间压模转印了凹凸图案的光固化性树脂的脱模性良好，并且凹凸图案的转印性优异。本发明还提供一种使用上述光固化性转印片形成微细凹凸图案的方法。一种光固化性转印片(10)，其特征在于，其具有通过加压能够变形、由包含聚合物和反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)，上述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。进而，本发明还提供一种使用上述光固化性转印片来形成凹凸图案的方法。

公开(公告)号：CN102272887A

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN201080004245.1

申请日：2010-01-08

Applicant: 株式会社普利司通

Inventor： 稻宫隆人 ,  桥元贤志 ,  甲斐田荣三

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  G11B7/26 ,  B29K33/04 ,  B29K83/00 ,  B29L7/00

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/026 ,  B29C59/04 ,  B29C59/046 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  G11B7/263

Abstract: 本发明提供一种光固化性转印片，其为在纳米压印加工法中，可有利地用于中间压模的制作的光固化性转印片，该光固化性转印片与此时所使用的具有微细凹凸图案的模具的剥离性、以及与从该中间压模转印凹凸图案而得到的产品的光固化树脂的剥离性良好，且，与基材薄膜的密合性良好；进而提供使用了该光固化性转印片的形成微细的凹凸图案的方法。光固化性转印片(10)，其特征在于，其为具有可通过加压变形的由光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)的光固化性转印片(10)，其中，前述光固化性组合物作为润滑剂含有有机硅系树脂和/或含氟原子的烯属化合物，光固化性转印层(11的表面能超过20mN/m、不足30mN/m。进而，提供使用了该光固化性转印片10的形成凹凸图案的方法。

公开(公告)号：CN102165558A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980137975.6

申请日：2009-09-25

Applicant: 株式会社普利司通

Inventor： 稻宫隆人 ,  甲斐田荣三

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  B29K35/00 ,  B29K83/00 ,  B29L11/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供凹凸图案的形成方法，其为可用于制作电子器件、光学部件、记录介质等的纳米压印加工法，可以廉价且高速地制造这种具有微细图案的产品。所述凹凸图案的形成方法的特征在于包括如下工序：将具有微细凹凸图案的压模的该表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；通过紫外线照射来使带有压模的层叠体的转印层固化、接着除去压模而得到转印层的表面具有微细反转凹凸图案的中间压模的工序；将中间压模的反转凹凸图案的表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；以及通过紫外线照射来使带有中间压模的层叠体的转印层固化、接着除去中间压模而得到转印层的表面具有与压模相同的微细凹凸图案的光固化性转印片的工序。