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公开(公告)号:CN101598917A
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200910147051.6
申请日:2009-06-08
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/0094
Abstract: 本发明公开了一种成像装置,包括充电单元,该充电单元构造成利用放电为图像承载部件的表面充电,由此在所述图像承载部件上形成静电潜像,所述放电通过向设置为接触或者接近所述图像承载部件的充电部件施加包含交变电流分量的电压而产生;显影单元,该显影单元构造成利用调色剂显影形成在所述图像承载部件上的静电潜像;清洁单元,该清洁单元构造成利用叶片清洁所述图像承载部件的表面;保护剂施加单元,该保护剂施加单元构造成通过刷辊摩擦并刮擦保护剂并且将保护剂施加到所述图像承载部件的表面;以及保护剂充电部件,该保护剂充电部件构造成为保护剂充电,所述保护剂充电单元设置在保护剂施加单元和充电单元之间。
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公开(公告)号:CN1641490A
公开(公告)日:2005-07-20
申请号:CN200410103299.X
申请日:2004-10-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G9/1075 , G03G9/107
Abstract: 一种用于显影静电潜像的双组分显影剂中的载体,至少包括粒子状芯材和位于粒子状芯材表面上的树脂层,该粒子状芯材的重均粒径(Dw)为25至45微米、在1KOe时磁矩为65至90Am2/kg。此外,该载体具有不低于1000V的击穿电压。
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公开(公告)号:CN100437363C
公开(公告)日:2008-11-26
申请号:CN200410103299.X
申请日:2004-10-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G9/1075 , G03G9/107
Abstract: 一种用于显影静电潜像的双组分显影剂中的载体,至少包括粒子状芯材和位于粒子状芯材表面上的树脂层,该粒子状芯材的重均粒径(Dw)为25至45微米、在1KOe时磁矩为65至90Am2/Kg。此外,该载体具有不低于1000V的击穿电压。
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公开(公告)号:CN1550918A
公开(公告)日:2004-12-01
申请号:CN200410043296.1
申请日:2004-05-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G9/1075 , G03G9/107 , G03G9/1132 , G03G9/1139
Abstract: 一种载体,包括锰铁氧体芯材料和位于锰铁氧体芯材料上的层,其中该载体满足下列条件:满足下述关系:0.1≤K≤30,其中K=(S/M)×100,其中S代表标准差M2/(M1+M2),而M代表其从0.05到0.45的平均值,其中M1代表载体颗粒中铁元素的含量,M2代表锰元素的含量。该载体在1000 Oe的条件下,具有45到75emu/g的磁化强度;25到65μm的重量平均粒径(D4),其中,所包含的不大于12μm的粒径的载体颗粒,其数量为不大于0.3重量百分比;重量平均粒径(D4)与载体的数量平均粒径(D1)之间的比例(D4/D1)是1到1.3。
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公开(公告)号:CN1379291A
公开(公告)日:2002-11-13
申请号:CN02107847.5
申请日:2002-03-22
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G9/083 , G03G9/0819
Abstract: 一种双组分显影剂,包含:含有粘合剂树脂和磁性粒子的磁性调色剂,和含有磁性粒子的磁性载体;其中所述磁性调色剂的平均粒径为4.0-10.0μm,且含有5-80数量%的粒径为5μm或更小的调色剂粒子,并且在5千奥斯特的磁场中的磁化强度为10-25emu/g。
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公开(公告)号:CN101201563B
公开(公告)日:2010-11-24
申请号:CN200710199640.X
申请日:2007-12-11
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14708 , G03G2221/1609
Abstract: 本发明涉及图像载体保护剂、保护层形成设备、成像方法、成像装置和处理盒。由保护剂在图像载体表面上形成保护层,该保护剂至少含有熔化性有机化合物,该有机化合物的针入度在25℃下在3毫米至30毫米的范围内,和热分解性有机化合物颗粒,该有机化合物颗粒的重量平均粒度在2微米至20微米的范围内。该有机化合物的熔化温度低于该有机化合物颗粒的分解温度,该有机化合物与该有机化合物颗粒的体积比在99/1至50/50的范围内。
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公开(公告)号:CN101504517A
公开(公告)日:2009-08-12
申请号:CN200910006154.0
申请日:2009-02-03
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/005 , C10M103/02 , C10M103/04 , C10M2201/0413 , C10M2201/0613 , C10M2201/0623 , C10M2201/0803 , C10M2201/0873 , C10M2201/1023 , C10M2201/1033 , C10M2207/1253 , G03G21/00 , G03G21/0011 , C10N2210/02
Abstract: 本发明涉及像载置体保护剂,保护层形成装置及图像形成装置。提供能够防止像载置体的磨耗及成膜、充电部件的污染及调色剂挤出的像载置体保护剂。与感光体鼓(1)对置设置的保护层形成装置(2)由像载置体保护剂(21)、刷辊状保护剂供给部件(22)、推压力赋与机构(23)、使供给至感光体鼓表面的像载置体保护剂薄层化的保护层形成机构(24)等构成。像载置体保护剂(21)含有疏水性有机化合物(A)、无机微粒(B)和无机润滑剂(C)。
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公开(公告)号:CN101201563A
公开(公告)日:2008-06-18
申请号:CN200710199640.X
申请日:2007-12-11
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14708 , G03G2221/1609
Abstract: 由保护剂在图像载体表面上形成保护层,该保护剂至少含有熔化性有机化合物,该有机化合物的针入度在25℃下在3毫米至30毫米的范围内,和热分解性有机化合物颗粒,该有机化合物颗粒的重量平均粒度在2微米至20微米的范围内。该有机化合物的熔化温度低于该有机化合物颗粒的分解温度,该有机化合物与该有机化合物颗粒的体积比在99/1至50/50的范围内。
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公开(公告)号:CN102050339B
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201010527759.7
申请日:2010-10-21
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G15/6529 , B65H7/02 , B65H2511/22 , B65H2513/10 , B65H2513/40 , B65H2557/242 , G01D5/04 , G01D5/12 , G01D5/30 , G01P3/44 , G03G15/602 , G03G2215/00565 , B65H2220/01 , B65H2220/11 , B65H2220/03
Abstract: 本发明涉及转动测定装置、薄片输送装置、原稿输送装置、图像形成装置。其目的在于,能够在不设置专用传感器的情况下,测定转动体的转动量以及在该转动体的轴线正交方向上的位移量。该转动测定装置使用与该转动体的转动轴部件同步转动的被检部件和检测该被检部件特性的传感器的组合,使得该被检部件每转动一次,该传感器便输出一个周期的正弦波,而且该传感器的正弦波的振幅随着该被检部件与该转动体一起在轴线正交方向的移动而变化,图示的被检部件510和距离传感器(511,512)的组合为一组合例,根据其中的传感器输出的正弦波计算转动体的转动量,同时,根据正弦波振幅变化量计算转动体在轴线正交方向上的位移量。
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公开(公告)号:CN101266415B
公开(公告)日:2012-02-29
申请号:CN200810083773.5
申请日:2008-03-12
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及保护剂涂布设备、处理盒及成像装置。一种将主要包含石蜡的保护剂涂布到感光元件的保护剂涂布设备。该保护剂涂布设备以下述方式将保护剂涂布到感光元件的表面:当涂布保护剂10分钟时,等于或大于0.5μg/cm2的保护剂附着到所述表面,并且当涂布保护剂60分钟时,等于或小于8μg/cm2的保护剂附着到所述表面。
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